ULPMAT

Silicium fer

Chemical Name:
Silicium fer
Formula:
SiFe
Product No.:
142600
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Cible de pulvérisation
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
142600ST001 SiFe 99.5% Ø 203.2mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
142600ST001
Formula
SiFe
Purity
99.5%
Dimension
Ø 203.2mm x 6.35 mm

Cible de pulvérisation en fer silicium Présentation

Les cibles de pulvérisation
en fer silicium
sont des cibles en alliage de fer silicium adaptées à la préparation de films minces fonctionnels qui combinent des propriétés magnétiques et une stabilité structurelle. Elles sont couramment utilisées pour le dépôt de films minces magnétiques, de dispositifs électroniques et de couches fonctionnelles associées.

Nous pouvons fournir des cibles de pulvérisation en fer silicium compatibles avec les processus et prendre en charge
l’intégration technique
de la composition, de la structure et des conditions de dépôt.

Points forts du produit

Composition stable du film
Propriétés magnétiques et structurelles combinées
Bonne stabilité thermique
Convient à divers procédés de pulvérisation
Grande cohérence du procédé

Applications des cibles de pulvérisation en fer silicium

Films minces magnétiques et couches fonctionnelles magnétiques :
les films minces en fer silicium sont couramment utilisés dans les dispositifs magnétiques pour optimiser les propriétés magnétiques et la stabilité structurelle.
Microélectronique et dispositifs intégrés :
convient au dépôt de couches structurelles fonctionnelles ou auxiliaires dans les dispositifs électroniques.
Films minces fonctionnels et de détection :
dans les applications de capteurs et de films minces fonctionnels, les films minces Si-Fe offrent des propriétés matérielles stables.
Recherche et développement de procédés :
utilisés pour la recherche sur les procédés et la vérification des paramètres de nouveaux films minces magnétiques ou fonctionnels.

FAQ

Q1 : Dans quels domaines les cibles de pulvérisation en fer silicium sont-elles principalement utilisées ?
A1 : Principalement utilisées dans les films minces magnétiques, les dispositifs électroniques et les films minces fonctionnels associés.

Q2 : Quelles sont les caractéristiques des films minces SiFe par rapport aux films minces en fer seul ?
R2 : L’introduction de silicium améliore la stabilité structurelle et l’adaptabilité du processus du film mince.

Q3 : Cette cible est-elle adaptée à une pulvérisation à long terme ?
R3 : Une cible en alliage bien conçue peut permettre un processus de pulvérisation stable et continu.

Q4 : La cible en alliage contribue-t-elle à la cohérence du film mince ?
R4 : Une composition d’alliage stable contribue à améliorer la cohérence de l’épaisseur et des performances du film mince.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous disposons d’une connaissance approfondie des matériaux et d’une grande expérience dans le domaine des cibles de pulvérisation en alliage. Nous fournissons des cibles de pulvérisation en fer-silicium stables et traçables afin d’aider nos clients à obtenir des résultats fiables en matière de dépôt de films minces pendant les phases de R&D et d’application.

Formule moléculaire : SiFe
Aspect : Cible dense gris argenté
Densité : 6,5-7,0 g/cm³ (en fonction du rapport Si:Fe)

Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.

Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.

Documents

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