Les cibles de pulvérisation
en silicium-chrome
sont des cibles en alliage de silicium-chrome adaptées à la préparation de films minces fonctionnels présentant une bonne adhérence et une bonne stabilité thermique. Elles sont couramment utilisées dans la microélectronique, les couches barrières, les revêtements résistants à la corrosion et les applications connexes de films minces fonctionnels.
Nous pouvons fournir des cibles de pulvérisation en silicium-chrome compatibles avec les processus et prendre en charge
l’intégration technique
de la conception de la composition et des paramètres de dépôt.
Composition du film contrôlable
Bonne stabilité thermique
Excellente adhérence
Convient à divers procédés de pulvérisation
Bonne cohérence du procédé
Microélectronique et films minces pour circuits intégrés :
les films en silicium-chrome sont couramment utilisés dans les dispositifs microélectroniques comme couches fonctionnelles ou couches structurelles auxiliaires.
Couches barrières et ingénierie des interfaces :
dans les structures multicouches, les films SiCr peuvent être utilisés pour améliorer la stabilité des interfaces et la compatibilité des matériaux.
Revêtements fonctionnels et résistants à la corrosion :
convient aux systèmes de revêtement fonctionnels nécessitant une résistance à la corrosion et une stabilité thermique.
Recherche et développement de processus :
utilisé pour la vérification des processus et l’optimisation des paramètres de nouvelles structures de films minces.
Q1 : Quelles applications de films minces conviennent aux cibles de pulvérisation en silicium-chrome ?
A1 : Principalement utilisées en microélectronique, dans les couches barrières, les films minces fonctionnels et les revêtements résistants à la corrosion.
Q2 : Quels sont les principaux avantages des films minces SiCr ?
R2 : Les avantages comprennent une bonne stabilité thermique, une bonne adhérence et une bonne stabilité structurelle du film.
Q3 : Pour quelles méthodes de pulvérisation cette cible peut-elle être utilisée ?
R3 : Convient aux procédés courants de dépôt de films minces tels que la pulvérisation magnétron.
Q4 : La composition de l’alliage a-t-elle une incidence sur les performances du film ?
R4 : Une conception appropriée de la composition permet d’optimiser les propriétés interfaciales et les performances globales du film.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous avons de l’expérience dans la conception et la fourniture de cibles de pulvérisation en alliage, et pouvons fournir des cibles de pulvérisation en silicium-chrome stables et traçables afin d’aider nos clients à vérifier leurs processus et à optimiser les performances des films minces avant la R&D et la production en série.
Formule moléculaire : SiCr
Aspect : Cible dense gris argenté
Densité : 6,2-6,5 g/cm³ (en fonction du rapport Si:Cr)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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