| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 1400ST001 | Si | 99.999% | Ø 50.8mm x 3.175 mm | Inquire |
| 1400ST002 | Si | 99.999% | Ø 50.8mm x 3.175 mm | Inquire |
| 1400ST003 | Si | 99.999% | Ø 50.8mm x 6.3 mm | Inquire |
| 1400ST004 | Si | 99.999% | Ø 76.2mm x 3.175 mm | Inquire |
| 1400ST005 | Si | 99.999% | Ø 76.2mm x 3.175 mm | Inquire |
| 1400ST006 | Si | 99.999% | Ø 76.2mm x 6.35 mm | Inquire |
| 1400ST007 | Si | 99.999% | Ø 76.2mm x 6.35 mm | Inquire |
| 1400ST008 | Si | 99.999% | Ø 76.2mm x 6.35 mm | Inquire |
| 1400ST009 | Si | 99.999% | Ø 101.6mm x 3.175 mm | Inquire |
| 1400ST010 | Si | 99.999% | Ø 101.6mm x 3.175 mm | Inquire |
| 1400ST011 | Si | 99.999% | Ø 101.6mm x 6.35 mm | Inquire |
| 1400ST012 | Si | 99.999% | Ø 101.6mm x 6.35 mm | Inquire |
| 1400ST013 | Si | 99.999% | Ø 152.4mm x 3.175 mm | Inquire |
| 1400ST014 | Si | 99.999% | Ø 152.4mm x 6.35 mm | Inquire |
| 1400ST015 | Si | 99.999% | Ø 203.2mm x 6.35 mm | Inquire |
| 1400ST016 | Si | 99.999% | 127mm x 787.4mm x 6mm | Inquire |
| 1400ST017 | Si | 99.999% | 151 mm x 113 mm x 7mm | Inquire |
| 1400ST018 | Si | 99.999% | 300 mm x 100 mm x 6mm | Inquire |
| 1400ST019 | Si | 99.99% | 350mm x 75mm x 6mm | Inquire |
Les cibles de pulvérisation
en silicium
sont des matériaux de base utilisés dans les processus de dépôt de couches minces. Elles offrent une excellente stabilité de pulvérisation et une grande uniformité de couche. Elles sont largement utilisées dans les dispositifs à semi-conducteurs
, les couches minces photovoltaïques, les écrans d’affichage et les revêtements fonctionnels.
Nous proposons des cibles de pulvérisation en silicium dans différentes spécifications et structures, adaptées à chaque application et processus. Veuillez nous contacter
directement pour obtenir des solutions et des devis.
Procédé de pulvérisation stable
Bonne uniformité du film
Compatible avec divers équipements de pulvérisation
Structure dense, haute contrôlabilité Taille et
forme personnalisables
Convient aux processus de production en continu
Dépôt de couches minces de semi-conducteurs :
couramment utilisé dans les processus de semi-conducteurs pour préparer des couches minces fonctionnelles à base de silicium, répondant aux exigences de stabilité des films pour la fabrication de dispositifs.
Films minces photovoltaïques et solaires :
dans les cellules solaires à film mince et les recherches connexes, les cibles en silicium peuvent être utilisées pour déposer des couches fonctionnelles actives ou auxiliaires.
Dispositifs d’affichage et optiques :
convient à la préparation de films minces fonctionnels pour les panneaux d’affichage, les fenêtres optiques et les dispositifs connexes, répondant aux besoins de dépôt sur de grandes surfaces.
Recherche et développement de procédés :
largement utilisées dans les systèmes de pulvérisation en laboratoire et les lignes pilotes, elles fournissent une base matérielle stable pour le développement de nouveaux procédés et de nouveaux films minces structurés.
Q1 : À quelles méthodes de pulvérisation les cibles de pulvérisation en silicium sont-elles adaptées ?
A1 : Elles peuvent être utilisées dans les procédés courants de dépôt physique en phase vapeur, tels que la pulvérisation en courant continu et la pulvérisation en radiofréquence, en fonction de la configuration de l’équipement et des paramètres du procédé.
Q2 : Le film formé sur la cible en silicium est-il uniforme pendant le pulvérisation ?
R2 : Dans des conditions de processus appropriées, les cibles en silicium présentent une bonne stabilité du taux de pulvérisation, ce qui permet d’obtenir des films d’épaisseur constante.
Q3 : Les cibles de pulvérisation en silicium nécessitent-elles généralement un fond de panier ?
R3 : La nécessité d’un fond de panier dépend de la taille de la cible, de la structure de l’équipement et des exigences en matière de dissipation thermique. Dans certaines applications, une structure de fond de panier métallique est utilisée.
Q4 : Les cibles en silicium sont-elles plus adaptées à la R&D ou à la production de masse ?
R4 : Les cibles de pulvérisation en silicium conviennent à la fois à la recherche et au développement de procédés, et peuvent également répondre aux exigences de stabilité et de répétabilité de la production industrielle.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans la fourniture de cibles de pulvérisation et de matériaux connexes adaptés à des applications spécifiques, en mettant l’accent sur la compatibilité et la stabilité des cibles dans les équipements réels. Nous fournissons à nos clients des paramètres clairs, des livraisons fiables et une assistance technique
efficace.
Formule moléculaire : Si
Poids moléculaire : 28.09 g/mol
Aspect : Cible dense gris argenté
Densité : 2.33 g/cm³
Point de fusion : 1414 °C
Point d’ébullition : 3265 °C
Structure cristalline : Système cubique diamant
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
Si vous avez besoin d'un service, veuillez nous contacter
