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Séléniure de cuivre

Chemical Name:
Séléniure de cuivre
Formula:
CuSe
Product No.:
293401
CAS No.:
1317-41-5
EINECS No.:
215-272-8
Form:
Cible de pulvérisation
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
293401ST001 CuSe 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
293401ST002 CuSe 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
293401ST003 CuSe 99.99% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
293401ST001
Formula
CuSe
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
293401ST002
Formula
CuSe
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
293401ST003
Formula
CuSe
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm

Cibles de pulvérisation en séléniure de cuivre – Présentation

Les cibles de pulvérisation
en séléniure de cuivre
sont des matériaux fonctionnels utilisés pour le dépôt de couches minces, principalement dans les dispositifs optoélectroniques, les couches minces conductrices et la recherche sur les matériaux.

Nous proposons des cibles de pulvérisation en séléniure de cuivre de composition uniforme et de haute densité, pouvant être personnalisées
en différentes tailles et structures. Veuillez nous contacter
pour obtenir des données techniques
et des informations sur les échantillons.

Caractéristiques du produit

Composition uniforme et stable
Matériau cible dense et uniforme
Processus de pulvérisation fluide
Composition contrôlable du film mince
Finition de surface fine
Options de liaison
et de fond de panier en option
Convient à divers équipements

Applications des cibles de pulvérisation en séléniure de cuivre

Préparation de films minces pour dispositifs
optoélectroniques
: peut être utilisé pour déposer des films minces avec une conductivité et des propriétés semi-conductrices stables, répondant aux besoins de R&D des dispositifs photovoltaïques et électroniques.
Films minces fonctionnels et revêtements de surface : forme des revêtements en film mince avec une bonne adhérence, une uniformité et une stabilité grâce à des processus de pulvérisation pour la fonctionnalisation de surface.
Recherche sur les capteurs et les dispositifs électroniques : convient aux scénarios de R&D sur les capteurs et les dispositifs électroniques où une grande cohérence de la composition du film mince et une stabilité des performances sont requises.
Recherche sur le traitement et les performances des matériaux : largement utilisé dans les instituts de recherche pour explorer la relation entre la structure des films minces, les conditions de dépôt et les performances.

FAQ

Q1 : Quelles méthodes de pulvérisation sont adaptées aux cibles de pulvérisation en séléniure de cuivre ?
A1 : Elles peuvent être utilisées pour les méthodes de pulvérisation courantes telles que la pulvérisation DC et RF. Le choix spécifique dépend des conditions de l’équipement.

Q2 : La densité de la cible affecte-t-elle la qualité du film ?
R2 : Une densité élevée contribue à améliorer l’uniformité du pulvérisation et la cohérence de la composition du film.

Q3 : Des cibles de différentes tailles ou formes peuvent-elles être personnalisées ?
R3 : Des cibles personnalisées de différentes tailles, épaisseurs et formes peuvent être fournies en fonction des exigences de l’équipement.

Q4 : Quelles précautions doivent être prises lors du stockage et du transport des cibles ?
R4 : Un stockage scellé est recommandé pour éviter l’humidité et la contamination, afin de maintenir l’état de la surface et les performances.

Rapports

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous nous concentrons sur la production et la gestion de la qualité des cibles de pulvérisation en séléniure métallique, en mettant l’accent sur l’uniformité des matériaux, la précision du traitement et la stabilité de la livraison, afin de fournir des solutions de dépôt de couches minces fiables et évaluables pour les clients du secteur de la recherche et de l’industrie.

Formule chimique : CuSe
Poids moléculaire : 151.61 g/mol
Aspect : Matériau cible noir et dense
Densité : 6,23 g/cm³
Point de fusion : 1 100 °C (avant décomposition)
Structure cristalline : Tétragonale

Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.

Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.

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