ULPMAT

Ruthénium métal

Chemical Name:
Ruthénium métal
Formula:
Ru
Product No.:
4400
CAS No.:
7440-18-8
EINECS No.:
231-127-1
Form:
Cible de pulvérisation
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
4400ST001 Ru 99.95% Ø 20 mm x 15 mm Inquire
4400ST002 Ru 99.95% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
4400ST003 Ru 99.95% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
4400ST004 Ru 99.95% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
4400ST005 Ru 99.95% 200 mm x 50 mm x 5mm Inquire
Product ID
4400ST001
Formula
Ru
Purity
99.95%
Dimension
Ø 20 mm x 15 mm
Product ID
4400ST002
Formula
Ru
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
4400ST003
Formula
Ru
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Product ID
4400ST004
Formula
Ru
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
4400ST005
Formula
Ru
Purity
99.95%
Dimension
200 mm x 50 mm x 5mm

Cibles de pulvérisation en ruthénium métallique – Présentation

Les cibles de pulvérisation
en ruthénium métallique
sont des matériaux de dépôt en couche mince fabriqués à partir de ruthénium métallique de haute pureté par fusion, forgeage, laminage et finition. Elles possèdent une excellente inertie chimique, une grande stabilité et une excellente conductivité électrique, et sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, les couches minces optoélectroniques, les matériaux de couches résistives, les revêtements durs et les dispositifs électroniques de précision. Grâce à leur haute densité, leur faible teneur en impuretés et leur bonne efficacité de pulvérisation, ces cibles sont un composant essentiel de la préparation avancée de films minces.

Nous pouvons fournir des cibles de pulvérisation en ruthénium de haute pureté dans différentes formes, tailles et densités, et prendre en charge les spécifications OEM et spéciales pour les projets de recherche. Veuillez nous contacter.

Points forts du produit

Métal ruthénium de haute pureté
Haute densité, taux de pulvérisation stable
Plusieurs tailles et géométries disponibles
Teneur en impuretés extrêmement faible, adaptée aux films minces haut de gamme
Microstructure uniforme, performances fiables des cibles
Support de fond d’écran personnalisé (service de collage)
Approvisionnement en vrac à long terme disponible
Expédition mondiale sécurisée, qualité traçable

Applications des cibles de pulvérisation en métal ruthénium

Utilisées pour la préparation de films minces conducteurs et de couches barrières dans les dispositifs microélectroniques.
Appliquées au dépôt de matériaux d’enregistrement magnétique et de films minces de stockage de données.
Cible fonctionnelle clé pour les dispositifs optoélectroniques
et les films minces de capteurs.
Utilisées pour les revêtements durs, les films résistants à l’usure et les systèmes de films minces améliorant la surface.

FAQ

Q1 : La méthode de traitement des cibles de pulvérisation au ruthénium peut-elle être personnalisée ?
R1 : Oui, nous proposons différentes méthodes de préparation telles que le pressage isostatique à chaud (HIP), la fusion sous vide, le laminage à froid et l’usinage, et pouvons personnaliser les formes et les tailles en fonction des besoins.

Q2 : Quelles sont les exigences particulières pour le stockage et le transport des cibles ?
R2 : Il est recommandé de conserver l’emballage d’origine scellé, de stocker les cibles dans un environnement sec et d’éviter les collisions avec des objets durs. Les cibles de pulvérisation en métaux précieux offrent une excellente résistance à la corrosion, mais il faut éviter que les rayures superficielles n’affectent la stabilité de la pulvérisation.

Q3 : Quels sont les avantages des cibles de pulvérisation en ruthénium par rapport aux cibles de pulvérisation en métaux ordinaires ?
A3 : Les cibles de pulvérisation en ruthénium possèdent une inertie chimique plus stable, un point de fusion plus élevé et un risque moindre de migration des impuretés, ce qui les rend adaptées aux applications exigeantes en microélectronique et en semi-conducteurs à couche mince.

Q4 : Fournissez-vous des services de soudage de plans arrière de pulvérisation ?
A4 : Nous pouvons fournir des services de soudage par diffusion utilisant du Mo, du Cu ou de l’Al comme plans arrière afin d’améliorer la dissipation thermique et la durée de vie des cibles, et nous prenons en charge le traitement des dessins fournis par les clients.

Rapports

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Des rapports d’essais effectués par des tiers sont disponibles sur demande.

Pourquoi nous choisir ?

Grâce à notre technologie mature de fabrication de cibles de pulvérisation en métaux précieux, nous pouvons garantir la densité stable, la structure uniforme et les performances fiables de nos cibles.
Nous proposons un système complet de livraison de cibles de pulvérisation, du contrôle des matières premières au traitement de précision et aux tests finaux, garantissant la traçabilité de chaque lot.
Nous répondons rapidement aux besoins de nos clients en leur fournissant une assistance technique, des conseils en matière de conception, des échantillons et des services de préparation de stocks en vrac.
Forts d’une vaste expérience dans le domaine des expéditions internationales, nous utilisons des emballages sûrs et robustes qui garantissent une livraison rapide et complète des cibles dans le monde entier.
Nous nous engageons à fournir des solutions de cibles de pulvérisation de métaux précieux hautement stables et de grande pureté pour les technologies à couche mince, les entreprises de semi-conducteurs et les instituts de recherche.

Formule chimique : Ru
Poids atomique : 101.07 g/mol
Aspect : Bloc, disque ou cible rectangulaire métallique gris argenté
Densité : 12,37 g/cm³ (solide)
Point de fusion : 2334 °C
Point d’ébullition : 4150 °C
Structure cristalline : Hexagonal compact (HCP)
Dureté : Dureté Mohs : environ 6,5

Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.

Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.

Documents

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