| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 490800ST001 | In2O3 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 490800ST002 | In2O3 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 490800ST003 | In2O3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 490800ST004 | In2O3 | 99.99% | Ø 101.6 mm x 4 mm | Inquire |
| 490800ST005 | In2O3 | 99.99% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 490800ST006 | In2O3 | 99.99% | Ø 152.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 490800ST007 | In2O3 | 99.99% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 490800ST008 | In2O3 | 99.99% | Ø 203.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 490800ST009 | In2O3 | 99.995% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 490800ST010 | In2O3 | 99.995% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 490800ST011 | In2O3 | 99.995% | Ø 101.6 mm x 4 mm | Inquire |
| 490800ST012 | In2O3 | 99.995% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 490800ST013 | In2O3 | 99.995% | Ø 152.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
La cible de pulvérisation d’oxyde d’indium (In2O3) est un matériau céramique de haute pureté largement utilisé dans les films conducteurs transparents, les dispositifs optoélectroniques et la recherche avancée sur les semi-conducteurs. Avec une excellente transparence optique, une conductivité contrôlable et des propriétés chimiques stables, la cible de pulvérisation In₂O₃ est idéale pour le dépôt de couches minces dans les écrans, les cellules solaires et les revêtements fonctionnels.
Nos cibles de pulvérisation In2O3 sont fabriquées avec une pureté de 99,995 % (4N5) ou plus, avec une densité élevée, une microstructure uniforme et des performances stables pour garantir la qualité reproductible des films minces pour la production industrielle et la recherche universitaire.
Haute pureté : 99,995% (4N5) ou plus garantit une performance fiable des films minces.
Excellente transparence : Transmission optique élevée dans le domaine visible.
Propriétés électriques stables : Résistivité réglable adaptée aux applications optoélectroniques.
Microstructure dense : La densité de frittage élevée améliore l’efficacité de la pulvérisation.
Options flexibles : Formes personnalisées, collage et plaques de support disponibles.
Films conducteurs transparents : Utilisés dans les écrans, les OLED et les panneaux tactiles.
Dispositifs optoélectroniques Optoélectroniques : Appliqués dans les photodétecteurs, les capteurs et les films minces fonctionnels.
Cellules solaires à couche mince : Convient pour les électrodes et les couches tampons.
Semi-conducteurs : Pour les transistors à couche mince et les dispositifs intégrés.
Recherche et développement : Largement utilisé dans les laboratoires pour l’électronique des oxydes.
Fournisseur professionnel : Spécialisé dans les cibles de pulvérisation transparentes conductrices et semi-conductrices.
Support de personnalisation : Personnalisation flexible de la taille, de la pureté et de la composition.
Contrôle de qualité strict : L’analyse ICP-MS des impuretés garantit des niveaux d’impureté très bas.
Livraison mondiale : Emballage sécurisé, expédition rapide, prise en charge des clients internationaux.
Documentation complète : Fourniture de COA, TDS, MSDS et rapports d’impureté.。
F1. Quelle est la pureté de vos cibles de pulvérisation In2O3 ?
A1. La pureté standard est de 99,99 % (4N). Des puretés plus élevées sont disponibles sur demande.
F2. Pouvez-vous fournir des dimensions et des formes personnalisées ?
A2. Oui, des formes rondes, rectangulaires et personnalisées sont disponibles.
F3. Quelles sont les plaques d’appui que vous fournissez ?
A3. Des plaques en cuivre (Cu), en molybdène (Mo) et en aluminium (Al) sont disponibles.
F4. Quelles sont les principales applications des cibles d’oxyde d’indium ?
A4. Films conducteurs transparents, cellules solaires, capteurs, TFT et projets de R&D.
F5. Comment les cibles sont-elles emballées pour être expédiées ?
A5. Les cibles sont scellées sous vide et protégées par un emballage antichoc pour une livraison en toute sécurité.
Chaque lot est fourni avec :
Un certificat d’analyse (COA)
Fiche technique (TDS)
Fiche de données de sécurité (FDS)
Des rapports d’essais par des tiers sont disponibles sur demande.
Formule moléculaire : In₂O₃
Poids moléculaire : 277,64 g/mol
Aspect : Cible céramique blanc cassé ou jaune pâle
Densité : ≥ 7,18 g/cm³ (proche de la densité théorique)
Point de fusion : 1910°C
Point d’ébullition : ~2000°C
Structure cristalline : Cubique (structure bixbyite)
Méthode de liaison : Pas de collage / Brasage In₂ / Fixation mécanique
Options de plaques de support : Cuivre (Cu), molybdène (Mo), aluminium (Al), options personnalisées disponibles
Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et boîtes pour éviter la contamination et l’humidité.
Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
Si vous avez besoin d'un service, veuillez nous contacter
