ULPMAT

Oxyde d’étain(II)

Chemical Name:
Oxyde d'étain(II)
Formula:
SnO
Product No.:
500800
CAS No.:
21651-19-4
EINECS No.:
244-499-5
Form:
Cible de pulvérisation
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
500800ST001 SnO 99.99% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
500800ST002 SnO 99.99% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
500800ST003 SnO 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
500800ST004 SnO 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
500800ST005 SnO 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
500800ST006 SnO 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
500800ST001
Formula
SnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
500800ST002
Formula
SnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
500800ST003
Formula
SnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
500800ST004
Formula
SnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
500800ST005
Formula
SnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
500800ST006
Formula
SnO
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm

Cibles de pulvérisation d’oxyde d’étain(II) Vue d’ensemble

Les cibles de pulvérisation d’oxyde d’étain(II) sont des matériaux de haute performance conçus pour les processus avancés de dépôt de couches minces. Elles sont largement utilisées dans les dispositifs électroniques transparents, les capteurs de gaz, les piles au lithium et les couches minces fonctionnelles. Ces matériaux offrent une excellente conductivité, une faible concentration de porteurs et une excellente uniformité de film, répondant ainsi aux exigences d’une large gamme de technologies de pointe.

Nous proposons des cibles de pulvérisation d’oxyde d’étain(II) de différentes formes et tailles, notamment rondes, rectangulaires et en forme d’anneau, qui peuvent être personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques de votre application. Nous fournissons également un service après-vente complet après-vente pour aider les clients à atteindre une production de masse stable.

Points forts du produit

Pureté : 99,99 %
La faible teneur en impuretés garantit la stabilité des performances du film
Structure dense, taux de pulvérisation et uniformité du film excellents
Taille, épaisseur et méthode de montage personnalisables
Convient à la préparation de films conducteurs transparents et de capteurs de gaz

Applications de la cible de pulvérisation d’oxyde d’étain(II)

Dispositifs électroniques transparents : Utilisée comme film conducteur transparent de type p dans les écrans TFT et les dispositifs organiques électroluminescents (OLED).
Capteurs de gaz : Utilisé pour la préparation de capteurs de gaz très sensibles à base de SnO pour la détection de gaz tels que le CO et le NO₂. Dispositifs électrochimiques : Utilisé comme revêtement pour les matériaux d’anode dans les batteries lithium-ion afin d’améliorer la stabilité du cycle.
Couches minces optoélectroniques et les couches minces fonctionnelles : Utilisées dans des applications spécialisées telles que les filtres infrarouges et le verre à faible émissivité.

Rapports

Nous fournissons un Certificat d’analyse (COA)une fiche de données de sécurité (MSDS) et d’autres rapports pertinents avec chaque expédition. Nous prenons également en charge les tests effectués par des tiers pour une meilleure assurance qualité.

Formule moléculaire : SnO
Poids moléculaire : 134,71 g/mol
Aspect : Cible céramique blanc cassé ou jaune clair avec une surface lisse
Densité : Environ 6,45 g/cm³ (densité élevée, adaptée à l’enduction sous vide)
Point de fusion : Environ 1 080 °C
Structure cristalline : Tétragonale (structure de type sulfure d’étain)

Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et boîtes pour éviter la contamination et l’humidité.

Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.

UGS 500800ST Catégorie Marque :

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