Oxyde de titane

Cibles de pulvérisation en oxyde de titane Présentation

Les cibles de pulvérisation
en oxyde de titane
sont des cibles en oxyde de titane à faible valence adaptées à la préparation de films minces d’oxyde fonctionnel dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Ces cibles sont largement utilisées dans les domaines de recherche liés aux matériaux électroniques, aux films minces fonctionnels et aux oxydes de métaux de transition.

Nous pouvons fournir des cibles de pulvérisation en Ti2O3 avec une composition stable et une structure uniforme pour la recherche et le dépôt de films minces de qualité industrielle. Veuillez nous contacter
pour obtenir des informations techniques.

Points forts du produit

Cibles d’oxyde de titane à faible valence
Composition et phase cristalline stables
Bonne contrôlabilité du processus de pulvérisation
Grande cohérence de la composition du film
Convient à divers systèmes PVD
Stabilité fiable des lots

Applications des cibles de pulvérisation d’oxyde de titane

Films minces d’oxyde fonctionnel :
couramment utilisés pour le dépôt de films minces d’oxyde ayant des propriétés électriques ou structurelles spécifiques, adaptés à la recherche sur les matériaux fonctionnels et les dispositifs.
Recherche sur les matériaux électroniques et semi-conducteurs :
cette cible convient à la préparation de films minces d’oxyde de métal de transition, utilisés pour étudier le comportement du transport électrique, la structure de bande et les propriétés d’interface.
Recherche et préparation de films minces en laboratoire :
en raison de leur composition chimique bien définie, les films minces de Ti2O3 sont largement utilisés dans les expériences de dépôt de films minces dans les universités et les instituts de recherche.
Développement de nouveaux matériaux fonctionnels :
dans les nouveaux systèmes de matériaux oxydés, les films minces de Ti2O3 sont souvent utilisés comme couches de base ou couches fonctionnelles pour explorer les propriétés des matériaux.

FAQ

Q1 : À quels types de films minces les cibles de pulvérisation d’oxyde de titane sont-elles principalement utilisées ?
A1 : Elles sont principalement utilisées pour le dépôt de films minces d’oxyde de titane à faible valence ou d’oxydes fonctionnels connexes, couramment utilisés dans la recherche sur les matériaux électroniques et fonctionnels.

Q2 : Le contrôle de l’atmosphère est-il nécessaire lors de l’utilisation de cibles d’oxyde de titane pour la pulvérisation ?
R2 : Oui, la pression partielle d’oxygène ou l’atmosphère de travail doit généralement être contrôlée pendant la pulvérisation afin de garantir la stabilité de l’état de valence et de la composition du titane dans le film mince.

Q3 : Quelles méthodes de pulvérisation conviennent aux cibles de pulvérisation d’oxyde de titane ?
R3 : Elles conviennent généralement aux systèmes de pulvérisation par magnétron RF et peuvent également être appliquées à d’autres procédés PVD en fonction des conditions de l’équipement.

Q4 : Quelle est la valeur scientifique des films minces préparés à l’aide de cibles de pulvérisation en oxyde de titane ?
R4 : Ce type de film mince présente un intérêt scientifique considérable pour l’étude des propriétés électriques, du comportement de transition de phase et des mécanismes des oxydes de métaux de transition.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous sommes spécialisés dans la préparation stable et le contrôle qualité des cibles de pulvérisation d’oxydes fonctionnels, fournissant une base matérielle fiable pour le dépôt de films minces de Ti₂O₃.