ULPMAT

Oxyde de nickel

Chemical Name:
Oxyde de nickel
Formula:
NiO
Product No.:
280800
CAS No.:
1313-99-1
EINECS No.:
215-215-7
Form:
Cible de pulvérisation
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
280800ST001 NiO 99.9% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
280800ST002 NiO 99.95% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
280800ST003 NiO 99.9% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
280800ST004 NiO 99.95% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
280800ST005 NiO 99.9% Ø 75 mm x 4 mm Inquire
280800ST006 NiO 99.95% Ø 76.2 mm x 5 mm Inquire
280800ST007 NiO 99.95% Ø 203.2 mm x 6.35 mm Inquire
280800ST008 NiO 99.9% 127 mm x 101 mm x 7mm Inquire
280800ST009 NiO 99.9% 200 mm x 75 mm x 3.2mm Inquire
Product ID
280800ST001
Formula
NiO
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
280800ST002
Formula
NiO
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
280800ST003
Formula
NiO
Purity
99.9%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
280800ST004
Formula
NiO
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
280800ST005
Formula
NiO
Purity
99.9%
Dimension
Ø 75 mm x 4 mm
Product ID
280800ST006
Formula
NiO
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2 mm x 5 mm
Product ID
280800ST007
Formula
NiO
Purity
99.95%
Dimension
Ø 203.2 mm x 6.35 mm
Product ID
280800ST008
Formula
NiO
Purity
99.9%
Dimension
127 mm x 101 mm x 7mm
Product ID
280800ST009
Formula
NiO
Purity
99.9%
Dimension
200 mm x 75 mm x 3.2mm

Vue d’ensemble des cibles de pulvérisation d’oxyde de nickel

Les cibles de pulvérisation d’oxyde de nickel sont des cibles d’oxyde de nickel de haute pureté qui conviennent au dépôt précis de couches minces fonctionnelles et de couches minces de céramique électronique.

Nous proposons des cibles de pulvérisation NiO chimiquement stables et de haute densité. Des tailles et des spécifications personnalisées peuvent être fournies en fonction des exigences de l’équipement et du processus. Veuillez nous nous contacter pour obtenir des informations techniques techniques.

Points forts du produit

Oxyde de nickel de haute pureté
Excellente densité de la cible
Composition uniforme et stable
Dépôt de film uniforme
Convient à la pulvérisation magnétron
Prise en charge de la personnalisation multi-spécifications
Prend en charge collage et la personnalisation des fonds de panier

Applications des cibles de pulvérisation d’oxyde de nickel

Couches minces de céramique électronique : Elles peuvent être utilisées pour le dépôt de matériaux céramiques électroniques afin de contrôler les propriétés électriques, magnétiques ou optiques.
Préparation de couches minces fonctionnelles : Convient à la préparation de couches minces fonctionnelles, telles que des films conducteurs, des films optoélectroniques ou des films de protection.
Couches minces catalytiques : Peuvent être utilisées pour le dépôt de dispositifs catalytiques ou de couches catalytiques en couches minces afin d’améliorer l’efficacité et la sélectivité des réactions catalytiques.
Recherche et développement de procédés : Convient aux instituts de recherche pour le contrôle de la structure des couches minces, l’optimisation des paramètres cibles et les nouvelles expériences de processus.

FAQ

Q1 : Pour quel type d’équipement de pulvérisation les cibles de pulvérisation NiO conviennent-elles ?
R1 : Elle peut être utilisée dans les équipements de pulvérisation magnétron, mais les exigences spécifiques doivent être confirmées par les spécifications de l’équipement.

Q2 : La composition de la cible est-elle uniforme et stable ?
R2 : Oui, la composition de la cible reste constante sur l’ensemble du bloc de cible, ce qui garantit l’uniformité du film.

Q3 : Pouvez-vous fournir des tailles personnalisées ou des spécifications de recherche ?
R3 : Oui, nous pouvons fournir différentes tailles et spécifications en fonction des besoins expérimentaux ou de production.

Q4 : La composition du film pulvérisé est-elle contrôlable ?
R4 : Avec des paramètres de processus raisonnables, la composition du film reste conforme à la cible.

Rapports

Chaque lot est fourni avec :
Un certificat d’analyse (COA)
Fiche technique (TDS)
Fiche de données de sécurité (FDS)
Rapport d’inspection de la taille
Rapports d’essais de tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous sommes spécialisés dans la R&D et la production de cibles de pulvérisation de NiO de haute pureté, en mettant l’accent sur la densité de la cible, l’uniformité de la composition et l’adaptabilité du processus, fournissant un support matériel fiable pour les films minces fonctionnels, les céramiques électroniques et les applications de recherche scientifique.

Formule moléculaire : NiO
Poids moléculaire : 74,69 g/mol
Aspect : Cible métallique noire ou verte avec une surface lisse
Densité : Environ 6,67 g/cm³ : Environ 6,67 g/cm³
Point de fusion : Environ 1 915 °C
Point d’ébullition : Environ 2 700 °C
Structure cristalline : Structure de sel gemme

Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et emballage pour éviter la contamination et l’humidité.

Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.

Documents

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