La poudre d’oxyde de hafnium est une poudre céramique de haute pureté conçue pour les matériaux fonctionnels avancés et les processus de dépôt de couches minces. Sa grande pureté, la taille uniforme de ses particules et son excellente stabilité chimique et thermique répondent aux exigences rigoureuses de l’électronique, de l’optique et de la catalyse de haute performance.
Nous proposons de la poudre d’oxyde d’hafnium dans une variété de tailles de particules et pouvons personnaliser les spécifications de pureté et d’emballage pour répondre aux besoins des clients. Nous fournissons également une assistance technique complète et un service après-vente afin de garantir une production sans heurts R&D et de production.
Pureté : 99,9 % à 99,99 %
Taille de particule uniforme convenant à la production de films minces de haute qualité
Excellente stabilité thermique et inertie chimique
Personnalisable distribution de la taille des particules et spécifications d’emballage
Largement utilisé dans l’électronique, l’optique, la catalyse et les matériaux céramiques
Matériaux hautement diélectriques : Sert de matériau de base pour la préparation de films minces à diélectrique élevé, largement utilisés dans les dispositifs à semi-conducteur.
Revêtements optiques : Utilisés pour la production de films optiques à indice de réfraction élevé et résistants à l’usure.
Supports de catalyseurs : En raison de sa grande stabilité, il convient comme matériau de support pour une variété de réactions catalytiques.
Matériaux céramiques : Utilisé dans la préparation de céramiques structurelles et fonctionnelles à haute température pour améliorer les performances des matériaux.
Nous fournissons un certificat d’analyse (COA) détaillé , une fiche de données de sécurité (MSDS) et d’autres rapports techniques pertinents pour chaque lot de poudre de HfO₂. Nous prenons également en charge les tests effectués par des tiers afin de garantir que la qualité des produits est conforme aux normes internationales et aux exigences des clients.
Formule moléculaire : HfO₂
Poids moléculaire : 210,49 g/mol
Aspect : Poudre blanche, particules finement divisées
Densité : Environ 9,68 g/cm³ (proche de la densité théorique)
Point de fusion : Environ 2 758 °C
Structure cristalline : Phase monoclinique prédominante, avec des phases tétragonales et cubiques réglables par le contrôle du processus.
Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et emballage pour éviter la contamination et l’humidité.
Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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