Les cibles de pulvérisation
d’oxyde cuivreux
sont des cibles en matériau fonctionnel de haute pureté principalement utilisées dans le dépôt de couches minces et la fabrication de dispositifs électroniques afin de garantir la stabilité des couches et des performances fiables.
Nous pouvons fournir des cibles de pulvérisation d’oxyde cuivreux de haute pureté dans différentes spécifications et tailles afin de répondre aux besoins de nos clients. Contactez-nous
pour obtenir des solutions personnalisées.
Oxyde de cuivre (I) de haute pureté
Excellente uniformité de composition
Dépôt de couches stable
Faible teneur en impuretés
Compatible avec divers équipements de pulvérisation
Propriétés électriques et optiques stables
Disponible en formes rondes, carrées et irrégulières
Préparation de couches minces
pour semi-conducteurs
et dispositifs électroniques : convient à la préparation et au dépôt de matériaux semi-conducteurs de type P, garantissant les performances électroniques et la fiabilité à long terme des dispositifs. Dispositifs
optoélectroniques
et d’affichage : utilisé dans les films minces conducteurs ou fonctionnels pour les composants optoélectroniques et les écrans, il offre des couches de film uniformes et des performances stables.
Revêtements fonctionnels et films industriels : utilisé pour le dépôt de revêtements résistants à la corrosion, conducteurs ou à fonction spéciale, il améliore les performances et la valeur ajoutée des matériaux industriels.
Q1 : L’oxyde cuivreux est-il une cible de pulvérisation adaptée à la pulvérisation DC ou RF ?
R1 : L’oxyde cuivreux est un matériau semi-conducteur, et la pulvérisation RF est généralement recommandée pour garantir un dépôt et une qualité de film stables.
Q2 : La surface de la cible nécessite-t-elle un traitement spécial ?
R2 : Les cibles expédiées sont généralement polies et désoxydées en usine et peuvent être utilisées directement. Un prétraitement supplémentaire peut être effectué si nécessaire en fonction du processus.
Q3 : L’oxyde cuivreux est-il une cible fragile ?
R3 : Par rapport aux cibles métalliques, les cibles en oxyde cuivreux sont plus fragiles. Il convient de prendre des précautions pour éviter tout dommage dû à un choc lors de la manipulation et de l’installation.
Q4 : La forme de la cible peut-elle être personnalisée en fonction de la taille de l’équipement ?
R4 : Oui, nous proposons des formes rondes, carrées et spéciales pour s’adapter aux différents équipements de pulvérisation et aux exigences du processus.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
L’analyse qualitative fournit des cibles de pulvérisation d’oxyde cuivreux fiables et traçables pour la recherche scientifique, la préparation de films minces pour les appareils industriels et électroniques, garantissant une qualité élevée et une cohérence à long terme du dépôt de film.
Formule chimique : Cu₂O
Poids moléculaire : 143.09 g/mol
Aspect : Matériau cible dense de couleur rouge à brun rougeâtre
Densité : 6.0 g/cm³
Point de fusion : 1 232 °C (se décompose)
Structure cristalline : Cubique (structure cubique, cuprite)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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