Les cibles de pulvérisation
en nitrure de titane
sont des cibles céramiques à base de titane importantes qui présentent une dureté élevée, un point de fusion élevé et une stabilité chimique. Elles sont largement utilisées dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour préparer des films minces fonctionnels résistants à l’usure et à la corrosion, adaptés aux revêtements durs, aux revêtements d’outils et au traitement de surface des appareils électroniques.
Nous proposons des cibles de pulvérisation TiN de haute pureté, denses et uniformes, adaptées aux systèmes de pulvérisation magnétron CC ou RF. Différentes tailles, formes et méthodes de liaison
peuvent être personnalisées pour répondre aux besoins de la recherche et de la production industrielle.
Haute dureté et résistance à l’usure, performances stables du film
Bonne inertie chimique, adaptée à divers substrats
Cible dense, réduisant l’hétérogénéité du pulvérisation
Prend en charge la pulvérisation continue et les applications industrielles
La haute pureté et l’uniformité de la composition garantissent la qualité du film
Revêtements durs fonctionnels :
peuvent être utilisés pour le revêtement de surface d’outils de coupe, de moules et de pièces à haute résistance à l’usure.
Dispositifs électroniques et films minces semi-conducteurs :
utilisé pour le revêtement de surface de dispositifs microélectroniques et la préparation de films minces conducteurs. Recherche scientifique et développement de nouveaux matériaux :
largement utilisé dans les universités, les instituts de recherche et les laboratoires pour la recherche sur les films minces fonctionnels et les processus PVD.
Q1 : Comment choisir la taille et la forme appropriées de la cible de pulvérisation TiN ?
R1 : Sélectionnez la taille et la forme de la cible en fonction des spécifications de l’équipement de pulvérisation, de la taille du substrat et des exigences de dépôt. Des options personnalisées sont disponibles sur demande auprès du service commercial.
Q2 : Quelles précautions faut-il prendre lors du stockage et du transport des cibles de pulvérisation TiN ?
R2 : Conservez-les au sec, évitez l’humidité et les dommages mécaniques, et prévenez la contamination et la rupture de la surface.
Q3 : Est-il possible de modifier la composition des cibles de pulvérisation ou de leur appliquer des traitements d’alliage ?
R3 : La composition peut être ajustée ou alliée à d’autres éléments selon les besoins du client afin de répondre à des exigences spécifiques en matière de performances des films minces.
Q4 : À quels procédés de pulvérisation les cibles de pulvérisation TiN sont-elles adaptées ?
R4 : Elles conviennent aux procédés de pulvérisation magnétron à courant continu, de pulvérisation magnétron à radiofréquence et de dépôt de films minces composites multicouches.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans les céramiques à base de titane et les cibles de pulvérisation, fournissant des cibles de pulvérisation TiN de haute pureté, denses et uniformes, ainsi que des solutions complètes de personnalisation et de stockage, garantissant la stabilité et la fiabilité pour les applications industrielles et de recherche.
Formule moléculaire : TiN
Aspect : Matériau cible jaune doré ou noir
Densité : Environ 5,43 g/cm³
Point de fusion : Environ 2960 °C
Structure cristalline : Cubique (structure de type NaCl)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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