Métal titane

Cible de pulvérisation en titane métallique Présentation

La cible de pulvérisation
en titane métallique
est une cible métallique de haute pureté largement utilisée dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour former des films minces fonctionnels en titane ou à base de titane. Elle est couramment utilisée dans les dispositifs à semi-conducteurs, les revêtements optiques, les couches résistantes à la corrosion et l’ingénierie de surface avancée.

Nous fournissons des cibles de pulvérisation en titane avec une composition stable et une microstructure contrôlée, permettant un dépôt fiable de films minces pour des applications industrielles et de recherche. Contactez
notre équipe technique pour obtenir des solutions sur mesure.

Points forts du produit

Matériau en titane de haute pureté
Structure granulaire uniforme
Excellente stabilité de pulvérisation
Faible génération de particules
Densité élevée de la cible
Composition homogène du film
Convient à la pulvérisation DC et RF
Compatible avec les conceptions collées et monobloc

Applications de la cible de pulvérisation de titane métallique

Films minces semi-conducteurs :
les cibles de pulvérisation de titane sont largement utilisées pour déposer des couches de Ti ou à base de Ti comme couches d’adhérence, barrières de diffusion et films conducteurs dans la fabrication de semi-conducteurs.
Revêtements optiques :
les films minces de titane préparés par pulvérisation sont utilisés dans les revêtements optiques interférentiels, les couches réfléchissantes et les systèmes multicouches fonctionnels nécessitant un contrôle précis de l’épaisseur.
Revêtements résistants à la corrosion :
les revêtements en titane offrent une excellente stabilité chimique et une excellente résistance à la corrosion, ce qui les rend adaptés aux couches protectrices dans des environnements chimiques ou marins difficiles.
Revêtements décoratifs et fonctionnels :
les films pulvérisés au titane sont utilisés dans les revêtements décoratifs, les couches résistantes à l’usure et la modification de surface pour les outils et les composants mécaniques.

FAQ

Q1 : Quelles méthodes de pulvérisation conviennent aux cibles métalliques en titane ?
R1 : Les cibles de pulvérisation en titane sont compatibles avec les systèmes de pulvérisation magnétron CC et RF, en fonction de la configuration de l’équipement et des exigences du processus.

Q2 : Comment la densité de la cible en titane affecte-t-elle la qualité du film mince ?
R2 : Une densité de cible plus élevée contribue à des taux de pulvérisation plus stables, à une réduction des arcs électriques et à une meilleure uniformité du film pendant les longs cycles de dépôt.

Q3 : Les cibles de pulvérisation en titane peuvent-elles être fournies sous forme collée ?
R3 : Oui, les cibles en titane peuvent être fournies sous forme de cibles collées sur des plaques de support afin d’améliorer la conductivité thermique et la stabilité mécanique pendant la pulvérisation.

Q4 : Quels sont les secteurs qui utilisent couramment les cibles de pulvérisation en titane ?
R4 : Elles sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, l’optique, l’ingénierie des surfaces, les dispositifs énergétiques et la recherche sur les matériaux.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Forts de notre expérience dans le domaine des matériaux de pulvérisation métalliques, nous mettons l’accent sur le contrôle des matières premières, la stabilité des processus et la gestion cohérente de la qualité afin de garantir la fiabilité des cibles de pulvérisation en titane pour la production industrielle et les applications de R&D.