Les cibles de pulvérisation
en cobalt métallique
possèdent une excellente conductivité et une grande stabilité à haute température, ce qui les rend très utilisées dans la fabrication de matériaux électroniques, à couche mince et optoélectroniques.
Nous proposons des cibles de pulvérisation en cobalt métallique de haute pureté pour répondre à divers besoins en matière de dépôt de couches minces. Contactez-nous
pour obtenir des solutions personnalisées.
La haute pureté garantit des performances de pulvérisation stables.
Bonne conductivité, adaptée à un dépôt efficace de couches minces.
Forte stabilité à haute température, adaptée aux environnements à haute température.
La haute densité garantit un effet de pulvérisation uniforme.
Tailles personnalisables pour répondre aux différentes exigences des équipements.
Un contrôle qualité strict garantit la cohérence et les performances élevées du produit.
Fabrication de semi-conducteurs :
les cibles de pulvérisation en cobalt sont des matériaux clés pour la fabrication de couches minces et de circuits intégrés, largement utilisés dans l’industrie des semi-conducteurs.
Industrie optoélectronique :
dans la production de dispositifs optoélectroniques, les cibles métalliques en cobalt sont utilisées pour le dépôt de couches minces, offrant d’excellentes propriétés électriques et optiques.
Cellules solaires :
le dépôt de couches minces photovoltaïques utilisé dans les cellules solaires contribue à améliorer l’efficacité de la conversion photoélectrique.
Matériaux magnétiques :
en tant que matériau pour les couches minces magnétiques haute performance, les cibles métalliques en cobalt ont de nombreuses applications dans le stockage magnétique et les capteurs.
Q1 : Quelle est la pureté des cibles métalliques en cobalt ?
A1 : Nos cibles métalliques en cobalt atteignent une pureté de 99,95 %, garantissant une stabilité dans le dépôt de haute précision.
Q2 : À quels équipements les cibles métalliques en cobalt sont-elles adaptées ?
A2 : Les cibles métalliques en cobalt sont largement utilisées dans les équipements de pulvérisation magnétron, les équipements de revêtement par pulvérisation et d’autres équipements de dépôt de couches minces.
Q3 : La taille des cibles métalliques en cobalt peut-elle être personnalisée ?
R3 : Oui, nous pouvons fournir des cibles métalliques en cobalt dans des tailles personnalisées selon les exigences du client.
Q4 : Quelle est la durée de vie des cibles métalliques en cobalt ?
R4 : La durée de vie des cibles métalliques en cobalt dépend de l’environnement d’exploitation et des conditions de dépôt, mais dans des conditions normales, une longue durée de vie peut être garantie.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche technique (TDS)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nos cibles de pulvérisation en cobalt offrent une grande pureté, une grande stabilité et d’excellentes performances de pulvérisation. Combinées à des services personnalisés et à un service après-vente professionnel, elles constituent le choix idéal pour une coopération à long terme.
Formule moléculaire : Co
Poids moléculaire : 58,93 g/mol
Aspect : Métallique gris argenté
Densité : 8,90 g/cm³ (densité théorique, 20 ℃)
Point de fusion : 1495 ℃
Point d’ébullition : 2927 ℃
Structure cristalline : Structure hexagonale empilée
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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