Les cibles de pulvérisation de lutécium métal pour le dépôt de couches minces sont des matériaux de haute performance conçus pour les processus de revêtement de couches minces de haute précision. D’une pureté pouvant atteindre 99,9 %, ces cibles de pulvérisation de lutécium de haute pureté offrent une excellente densité et une microstructure uniforme, garantissant la stabilité, la compacité et l’adhérence exceptionnelle du film déposé. Nos cibles de pulvérisation sous vide de lutécium métallique réduisent efficacement la teneur en impuretés, répondent aux exigences strictes des processus de revêtement de semi-conducteurs et d’optiques et sont idéales pour l’électronique, la photonique et la recherche sur les matériaux avancés.
Nous fournissons du lutécium de haute pureté personnalisé dans une variété de tailles et de formes, y compris rondes et rectangulaires, qui peuvent être produites selon les besoins du client. Dotés d’une assistance technique complète et d’un service après-vente, nous aidons nos clients à résoudre divers problèmes dans les applications de revêtement et de dépôt de couches minces utilisant des cibles de pulvérisation de lutécium.
Haute densité, garantissant un dépôt de film uniforme et dense
Taille et forme personnalisables pour répondre aux besoins des différents équipements
Service de reliure de cible disponible
Support technique complet disponible
Semi-conducteur : utilisé pour le dépôt de couches minces de dispositifs à haute performance, offrant d’excellentes propriétés électriques et optiques
Matériaux laser : matériaux clés pour les cristaux laser et les films fonctionnels à base de lutécium
Dispositifs optoélectroniques : dépôt de films fonctionnels dans les diodes électroluminescentes, les fibres optiques et les capteurs optiques
Revêtements haut de gamme : utilisés pour la préparation de films fonctionnels spéciaux, résistants à l’usure et à la corrosion
Nous fournissons des certificats d’analyse détaillés, des fiches de données de sécurité et d’autres rapports d’essai pour chaque lot de cibles de pulvérisation au lutécium, et nous soutenons les essais effectués par des tiers afin de garantir la transparence et la fiabilité de la qualité des produits. N’hésitez pas à nous contacter pour plus d’informations techniques.
Formule chimique : Lu
Aspect : Métal blanc argenté à blanc grisâtre avec un éclat métallique
Densité : 9,84 g/cm³ (métal de terre rare de haute densité)
Point de fusion : 1663 °C
Point d’ébullition : 3400 °C
Conductivité thermique : 16,4 W/m-K
Conductivité électrique : 1,79 × 10⁷ S/m
Capacité thermique spécifique : 0,154 J/g-K
Coefficient d’expansion thermique : 9.9 × 10-⁶ /K
Structure cristalline : Structure cristalline : hexagonale (HCP)
Propriétés magnétiques : Paramagnétique
Résistance à la corrosion : Modérée ; stable à l’air sec, mais facilement oxydable dans les environnements humides
Réactivité chimique : Sensible aux acides, en particulier à l’acide sulfurique dilué et à l’acide nitrique, réagit lentement avec l’eau pour produire de l’hydrogène.
Mot signal :
Danger
Mentions de danger :
H228 : Solide inflammable
H260 : Au contact de l’eau, dégage des gaz inflammables qui peuvent s’enflammer spontanément
Emballage intérieur : Sachet scellé sous vide pour protéger de la contamination et de l’humidité.
Emballage extérieur : Carton ou caisse en bois, en fonction de la taille et du poids.
Cibles fragiles : Un emballage de protection spécial est utilisé pour assurer un transport sûr.
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