Les cibles de pulvérisation
en iodure de cuivre
sont des matériaux fonctionnels typiques à base d’halogénure de cuivre, principalement utilisés pour la préparation de films conducteurs transparents et de nouveaux films fonctionnels optoélectroniques.
Nous pouvons fournir des cibles de pulvérisation en iodure de cuivre de différentes tailles, formes et puretés, en fonction des besoins des clients. Veuillez nous contacter
pour obtenir des solutions personnalisées
et une assistance technique.
Stœchiométrie stable
Bonne cohérence de la composition du film
Processus de pulvérisation hautement contrôlable
Convient aux processus de dépôt à basse température
Facilite l’obtention de films à haute transmittance
Compatible avec divers systèmes de pulvérisation
Films conducteurs transparents : dans les appareils électroniques transparents, les films d’iodure cuivreux peuvent être utilisés pour construire des couches fonctionnelles qui combinent conductivité et transmittance de la lumière visible, adaptées aux technologies d’affichage flexibles et innovantes. Recherche sur les dispositifs
optoélectroniques
: ce matériau présente un intérêt pour la recherche en termes de caractéristiques de photoréponse et est souvent utilisé pour la vérification de dispositifs optoélectroniques de qualité laboratoire et de structures semi-conductrices innovantes.
Hétérojonctions et couches d’interface : dans les structures à films minces multicouches, l’iodure cuivreux peut servir de couche d’interface fonctionnelle, améliorant le comportement de transport des porteurs et la stabilité de l’interface.
Développement de revêtements fonctionnels : les films minces d’iodure cuivreux préparés par pulvérisation cathodique conviennent au criblage des matériaux et à l’évaluation des performances de nouveaux revêtements fonctionnels.
Q1 : Une cible de pulvérisation d’iodure cuivreux convient-elle à la pulvérisation cathodique DC ou RF ?
A1 : En général, la pulvérisation cathodique RF est plus appropriée, car elle permet d’obtenir des films minces avec une composition plus uniforme et une adhérence plus stable.
Q2 : La cible est-elle susceptible de se décomposer pendant la pulvérisation cathodique ?
R2 : Dans des conditions raisonnables de contrôle de la puissance et de l’atmosphère, la structure de la cible est stable, ce qui permet un dépôt continu.
Q3 : Des températures élevées du substrat sont-elles nécessaires pour la préparation de films minces ?
R3 : Ce matériau permet un dépôt à des températures de substrat relativement basses, ce qui le rend adapté aux applications de substrats sensibles à la température.
Q4 : Quelles précautions faut-il prendre lors du stockage de la cible ?
R4 : Il est recommandé de la stocker dans un récipient hermétique, en évitant les environnements humides afin de préserver la stabilité chimique du matériau.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans la préparation stable et l’assistance à l’application de cibles de pulvérisation de matériaux fonctionnels. Du contrôle des matières premières aux tests des produits finis, nous disposons de processus éprouvés qui offrent à nos clients une cohérence fiable des matériaux, des capacités de personnalisation flexibles et des garanties d’approvisionnement durables à long terme, facilitant ainsi le bon déroulement des projets de recherche et d’industrialisation.
Formule chimique : CuI
Poids moléculaire : 190.45 g/mol
Aspect : cible de pulvérisation dense de couleur blanche à jaune pâle : Cible de pulvérisation dense, blanche à jaune pâle
Densité : 5.62 g/cm³
Point de fusion : 588 °C
Point d’ébullition : 1 300 °C
Structure cristalline : Cubique
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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