ULPMAT

Germanium métal

Chemical Name:
Germanium métal
Formula:
Ge
Product No.:
3200
CAS No.:
7440-56-4
EINECS No.:
231-164-3
Form:
Cible de pulvérisation
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
3200ST001 Ge 99.999% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
3200ST002 Ge 99.999% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
3200ST003 Ge 99.999% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
3200ST004 Ge 99.999% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
3200ST005 Ge 99.999% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
3200ST006 Ge 99.999% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
3200ST007 Ge 99.999% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
3200ST008 Ge 99.999% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
3200ST001
Formula
Ge
Purity
99.999%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
3200ST002
Formula
Ge
Purity
99.999%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
3200ST003
Formula
Ge
Purity
99.999%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
3200ST004
Formula
Ge
Purity
99.999%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
3200ST005
Formula
Ge
Purity
99.999%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
3200ST006
Formula
Ge
Purity
99.999%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
3200ST007
Formula
Ge
Purity
99.999%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Product ID
3200ST008
Formula
Ge
Purity
99.999%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Cibles de pulvérisation en germanium métallique Présentation

Les cibles de pulvérisation
en germanium métallique
sont des plaques solides denses fabriquées à partir de germanium métallique de haute pureté grâce à des procédés métallurgiques de précision (tels que la fusion et le pressage à chaud). Elles présentent un éclat métallique gris argenté et une structure cristalline principalement polycristalline. Consommables essentiels dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD), elles sont utilisées pour déposer des films de germanium haute performance sur des substrats ou servent de sources de dopage.

Nous proposons des cibles de pulvérisation en germanium métallique de différentes puretés, formes et tailles, avec des services de soudage (soudage de plaques de support en cuivre/aluminium) disponibles. Contactez-nous
pour obtenir un devis.

Points forts du produit

Ultra-haute pureté
Haute densité, faible porosité
Excellente uniformité microstructurale
Services de soudage disponibles
Contrôle précis des dimensions et des tolérances

Applications des cibles de pulvérisation en germanium métallique

Semi-conducteurs
et microélectronique : utilisées pour déposer des films de germanium ou de silicium-germanium comme matériaux de canal dans les transistors à haute vitesse afin d’améliorer les performances des dispositifs. En tant que source de dopage, introduction de germanium dans les processus de semi-conducteurs pour ajuster la structure de bande du matériau.

Optique
et détection infrarouge : utilisé pour le dépôt de revêtements antireflets infrarouges, de films protecteurs ou la fabrication de détecteurs à couche mince de germanium sur des substrats optiques. Prépare les matériaux de revêtement nécessaires aux lentilles infrarouges dans les systèmes d’imagerie thermique.

Photovoltaïque et nouvelles énergies : utilisé pour préparer les films de substrat en germanium ou les couches tampons nécessaires aux cellules solaires III-V à haut rendement (par exemple, l’arséniure de gallium). Sert de couche fonctionnelle clé dans les nouvelles cellules solaires à couche mince (par exemple, les cellules tandem pérovskite/germanium).

Stockage de données et revêtements fonctionnels : utilisé pour déposer des films d’alliage germanium-antimoine-tellure dans les mémoires à changement de phase. Utilisé comme matériau de revêtement fonctionnel résistant à l’usure et à la corrosion, appliqué sur les surfaces des composants de précision.

FAQ

Q1 : Quelles sont les principales différences entre les cibles en germanium et celles en silicium ?
A1 : Les cibles en germanium sont utilisées pour le dépôt de films transparents aux infrarouges et à haute mobilité, adaptés à l’optique haut de gamme et aux dispositifs spécialisés ; les cibles en silicium sont peu coûteuses et constituent la norme absolue pour le revêtement des circuits intégrés.

Q2 : Quel niveau de pureté est requis ?
R2 : Cela dépend de l’application. L’optique infrarouge utilise généralement du 5N (99,999 %), tandis que les dispositifs semi-conducteurs haut de gamme nécessitent du 6N (99,9999 %) ou plus.

Q3 : Proposez-vous des services de collage ?
R3 : Oui. Nous fournissons des services professionnels de collage des cibles sur des plaques de support (généralement en cuivre) afin d’assurer la dissipation thermique et la stabilité de l’installation, et de livrer des cibles prêtes à l’emploi.

Q4 : Comment les cibles doivent-elles être stockées et entretenues ?
R4 : Stockez-les dans un environnement sec et propre, dans un emballage hermétique. Nettoyez la surface de la cible après utilisation afin d’éviter toute contamination. Assurez-vous de les protéger contre les chocs pendant le transport afin d’éviter que les cibles fragiles ne se fissurent.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous fournissons des solutions complètes pour les cibles, depuis les matériaux de haute pureté jusqu’au traitement de précision, au collage et aux essais. Nous sommes votre partenaire fiable pour le développement de technologies avancées en matière de couches minces.

Formule moléculaire : Ge
Poids moléculaire : 72,63
Aspect : Cible solide blanc grisâtre avec un éclat métallique.
Densité : 5,35 g/cm³
Point de fusion : 938,25 °C
Point d’ébullition : 2833 °C
Structure cristalline : Structure cubique diamantée, groupe spatial Fd-3m

Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.

Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.

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