La cible rotative
en carbure de silicium
est une cible rotative en céramique destinée au dépôt continu de couches minces, adaptée aux processus nécessitant une grande stabilité et un fonctionnement à long terme. Elle est principalement utilisée dans les revêtements de grande surface, les couches minces fonctionnelles et les systèmes industriels de pulvérisation cathodique en continu.
Nous pouvons fournir des cibles rotatives en carbure de silicium compatibles avec les processus et prendre en charge
l’intégration technique
de la conception structurelle et des conditions de dépôt.
Convient aux processus de pulvérisation continue
Composition stable du film
Utilisation optimale de la cible
Convient au dépôt sur de grandes surfaces
Bonne stabilité opérationnelle
Revêtements fonctionnels de grande surface :
la cible rotative en carbure de silicium convient à la préparation continue de revêtements fonctionnels sur des substrats en verre, en métal ou en polymère.
Systèmes de pulvérisation continue industriels :
dans les équipements de pulvérisation roll-to-roll ou en ligne, la structure de la cible rotative contribue à améliorer la stabilité de la production.
Films résistants à l’abrasion et protecteurs :
utilisés pour préparer des films protecteurs de haute dureté qui répondent aux exigences des environnements de service à long terme.
Recherche et validation des processus :
prend en charge le développement de nouveaux paramètres de processus et l’évaluation des performances des films.
Q1 : Quels sont les avantages d’une cible rotative en carbure de silicium par rapport à une cible plane ?
A1 : Les cibles rotatives permettent une meilleure utilisation de la cible et améliorent la stabilité du processus de pulvérisation.
Q2 : Les cibles rotatives en SiC sont-elles adaptées à un fonctionnement à long terme ?
A2 : Oui, la structure rotative aide à dissiper la chaleur et permet un fonctionnement continu.
Q3 : Dans quels systèmes les cibles rotatives en carbure de silicium sont-elles couramment utilisées ?
R3 : Elles sont principalement utilisées dans les systèmes industriels de pulvérisation continue et de dépôt de films minces sur de grandes surfaces.
Q4 : La structure de la cible rotative a-t-elle une incidence sur l’uniformité du film ?
R4 : Une cible rotative bien conçue contribue à améliorer l’épaisseur du film et l’uniformité de sa composition.
Chaque lot est accompagné des documents
suivants :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous avons une compréhension structurelle et une expérience de la fourniture dans le domaine des cibles rotatives en céramique, ce qui nous permet de fournir des cibles rotatives en carbure de silicium stables et traçables, aidant ainsi nos clients à obtenir un dépôt de film mince stable et très homogène dans les processus de pulvérisation continue.
Formule moléculaire : SiC
Poids moléculaire : 52.11 g/mol
Aspect : Tube cible rotatif noir et dense
Densité : 3,21-3,22 g/cm³ (cible frittée) : 3,21-3,22 g/cm³ (cible frittée)
Point de fusion : 2730 °C (se décompose)
Structure cristalline : Hexagonale (α-SiC) ; Cubique (β-SiC)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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