Borure de titane

Cible de pulvérisation en borure de titane Présentation

La cible de pulvérisation
en borure de titane
est une cible de pulvérisation céramique à haute dureté et à point de fusion élevé, dotée d’une excellente conductivité électrique et d’une grande stabilité chimique. Elle est largement utilisée dans le développement de revêtements à haute dureté, de films céramiques conducteurs, de films minces fonctionnels et de matériaux scientifiques en film mince.

Nous proposons des cibles de pulvérisation TiB₂ à composition uniforme et structure dense, adaptées aux systèmes de pulvérisation magnétron CC ou RF. Veuillez nous contacter
pour obtenir des spécifications détaillées et des informations techniques.

Points forts du produit

Cible céramique à haute dureté et à point de fusion élevé
Bonne conductivité électrique, dépôt de film mince stable
Résistance aux températures élevées et à la corrosion, forte stabilité thermique
Convient au dépôt à haute température, sous vide et en atmosphère inerte
Grande cohérence des lots Tailles et formes
personnalisables

Convient à la préparation de films minces scientifiques et industriels

Applications de la cible de pulvérisation en diborure de titane

Revêtements à haute dureté et résistants à l’usure :
peut être utilisé pour préparer des revêtements résistants à l’usure et à haute dureté, largement utilisés sur les surfaces des outils de coupe, des moules et des équipements industriels.
Films céramiques conducteurs et films composites :
grâce à sa conductivité et à sa stabilité chimique, le TiB2 peut être utilisé pour préparer des films composites métal-céramique et des films céramiques conducteurs pour les appareils électroniques et les matériaux fonctionnels.
Recherche et développement de films minces :
applicable à la recherche sur les films minces fonctionnels TiB2, au développement de nouveaux revêtements à haute dureté et aux tests de performance des films.
Revêtements résistants à la corrosion à haute température :
les films TiB2 présentent une stabilité dans les environnements à haute température et corrosifs, ce qui les rend adaptés aux revêtements protecteurs et aux appareils électroniques à haute température.

FAQ

Q1 : Quelle méthode de pulvérisation convient aux cibles TiB2 ?
A1 : Convient à la pulvérisation magnétron DC et à la pulvérisation magnétron RF. Il présente une bonne conductivité et s’adapte à divers procédés PVD.

Q2 : La composition des cibles TiB2 est-elle stable pendant le pulvérisation ?
R2 : Dans des conditions de processus appropriées, la cible conserve une composition chimique stable, ce qui se traduit par une bonne répétabilité et une bonne cohérence du film.

Q3 : Les cibles TiB2 conviennent-elles au dépôt à haute température ?
R3 : Oui, cette cible présente une excellente stabilité thermique et une excellente résistance aux chocs thermiques, ce qui la rend adaptée au dépôt de films minces à haute température.

Q4 : Quelles sont les principales applications des cibles de pulvérisation TiB2 ?
A4 : Elles sont principalement utilisées dans le développement de revêtements résistants à l’usure, de films céramiques conducteurs, de films fonctionnels et de matériaux de recherche scientifique pour films minces.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous nous concentrons sur la recherche et la fourniture de cibles de pulvérisation céramiques haute performance, en veillant à ce que les cibles de pulvérisation TiB2 répondent aux normes scientifiques et industrielles en termes de structure des matériaux, de densification et de compatibilité de pulvérisation, offrant ainsi une garantie fiable pour la préparation de films minces fonctionnels et de revêtements à haute dureté.