ULPMAT

Borure de hafnium

Chemical Name:
Borure de hafnium
Formula:
HfB2
Product No.:
720500
CAS No.:
12007-23-7
EINECS No.:
234-500-7
Form:
Cible de pulvérisation
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
720500ST001 HfB2 99.5% (Hf+Zr) Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
720500ST002 HfB2 99.5% (Hf+Zr) Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
720500ST003 HfB2 99.5% (Hf+Zr) Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
720500ST004 HfB2 99.5% (Hf+Zr) Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
720500ST001
Formula
HfB2
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
720500ST002
Formula
HfB2
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
720500ST003
Formula
HfB2
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
720500ST004
Formula
HfB2
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Cibles de pulvérisation du borure d’hafnium Vue d’ensemble

Les cibles de pulvérisation de borure d’hafnium sont des matériaux de haute performance conçus spécifiquement pour les processus de dépôt de couches minces. D’une pureté de 99,5 %, elles offrent une densité et une dureté excellentes, garantissant un dépôt uniforme de couches minces et une forte adhérence, ce qui les rend adaptées à une variété d’environnements à haute température et à haute pression.

Nous proposons des cibles de pulvérisation de borure d’hafnium dans une variété de formes et de tailles, y compris rondes, rectangulaires et personnalisées, pour répondre aux besoins spécifiques de nos clients. Nous fournissons également un service après-vente complet ; n’hésitez pas à n’hésitez pas à nous contacter n’hésitez pas à nous contacter si vous avez des questions.

Points forts du produit

Pureté : 99,5
La densité élevée garantit un dépôt uniforme de couches minces
Dureté et résistance élevées, adaptées aux environnements à haute température et à haute pression
Tailles et formes personnalisables
Possibilité de collage sur cible
Convient aux semi-conducteurs, aux revêtements optiques, à l’aérospatiale et à d’autres domaines

Applications des cibles de pulvérisation du borure d’hafnium

Semi-conducteurs : En raison de son excellente conductivité et de sa stabilité thermique, elle est largement utilisée pour le dépôt de dispositifs à haute puissance et de matériaux optoélectroniques.
Revêtements optiques : Utilisé pour former des films minces de haute dureté et de haute réflectivité, il est particulièrement adapté aux applications telles que les composants optiques et les miroirs. Aérospatiale : Le point de fusion élevé et la résistance aux températures élevées du HfB₂ en font un choix exceptionnel pour les applications aérospatiales, ce qui le rend approprié pour la protection contre les températures élevées et les matériaux de blindage thermique.
Électricité et énergie : il convient au dépôt de dispositifs électroniques de haute puissance, de couches minces solaires et d’autres films fonctionnels de haute performance.

Rapports

Nous fournissons un Certificat d’analyse (COA)une fiche de données de sécurité (FDS) et d’autres rapports pertinents avec chaque envoi. Nous prenons également en charge les tests effectués par des tiers afin de garantir la qualité et la fiabilité des produits.

Formule moléculaire : HfB₂
Poids moléculaire : 190,08 g/mol
Aspect : Matériau dur avec un éclat métallique gris argenté.
Densité : Environ 10,5 g/cm³ (proche de la densité théorique)
Point de fusion : Environ 3 250 °C
Structure cristalline : Hexagonale

Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et emballage pour éviter la contamination et l’humidité.

Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.

UGS 720500ST Catégorie Marque :

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