Les cibles de pulvérisation au bore sont fabriquées à partir de bore de haute pureté, généralement gris foncé à noir, avec un éclat métallique et une structure cristalline atomique. Elles sont largement utilisées dans les applications de semi-conducteurs, d’optoélectronique, de revêtement optique et de revêtement dur, notamment pour la préparation de films minces de bore, de films minces de borure (tels que B₄C, TiB₂, MoB₂) et de films de semi-conducteurs dopés au bore. Les cibles de bore peuvent être fabriquées dans des formes circulaires, rectangulaires ou d’autres formes personnalisées pour répondre aux différentes exigences des processus
Grande pureté : Standard ≥99,5 %, ultra-haute pureté jusqu’à ≥99,9 % Excellentes propriétés physiques : Point de fusion élevé (~2076 °C), dureté élevée (Mohs ~9,3) Forte stabilité chimique : Résistant aux acides et aux alcalis à température ambiante Qualité supérieure des films : Produit des films denses et uniformes avec une forte adhérence Spécifications personnalisables : Taille, forme et pureté disponibles sur demande
Industrie des semi-conducteurs : les cibles de pulvérisation du bore sont utilisées pour les films de silicium dopé au bore, la fabrication de semi-conducteurs de type P.Revêtements optiques : Films antireflets résistants à l’usure et aux hautes températuresRevêtements durs : Production de revêtements tels que le carbure de bore (B₄C) et le diborure de titane (TiB₂)Industrie nucléaire : les cibles de pulvérisation cathodique de bore sont utilisées pour les films minces à forte capacité d’absorption des neutrons
Utiliser des gants propres ou des couvre-doigts lors de la manipulation afin d’éviter toute contamination. Stocker dans un emballage scellé, à l’abri de l’humidité, dans un environnement frais, sec et propre. Tenir à l’écart des agents oxydants forts, des halogènes et des sources de chocs mécaniques.
Aspect : Gris foncé à noir solide
Structure cristalline : Cristal atomique, dureté de Mohs 9,3
Densité : ~2,34 g/cm³ (peut varier en fonction de la méthode de frittage)
Point de fusion : 2076 °C
Stabilité chimique : Ne réagit pas avec l’oxygène ou les acides dilués à température ambiante ; réagit vigoureusement avec les halogènes et les agents oxydants puissants.
Emballage intérieur : Scellé sous vide dans des sacs en polyéthylène antistatiques
Emballage extérieur : Carton antichoc ou caisse en bois avec doublure en mousse
Fourniture standard : 1 pièce/boîte ou selon les besoins du client
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