Les cibles de pulvérisation
en alliage de titane et nickel
combinent la haute résistance du titane et la résistance à la corrosion et la ductilité du nickel. Ces cibles sont largement utilisées dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour préparer des films minces métalliques fonctionnels, des revêtements résistants à la corrosion et des matériaux de modification de surface pour les dispositifs microélectroniques.
Nous proposons des cibles de pulvérisation Ti-Ni de haute pureté, denses et de composition uniforme, adaptées aux systèmes de pulvérisation magnétron DC ou RF. Des tailles, des formes et des méthodes de liaison personnalisées peuvent être fournies pour répondre aux besoins de la recherche et de la production industrielle.
La conception de l’alliage améliore la résistance à la corrosion et les propriétés mécaniques du film.
La densité et l’uniformité de la cible garantissent un dépôt stable du film.
Excellente adhérence du film et excellentes propriétés interfaciales.
Applicable à divers substrats et conditions de processus PVD.
Prend en charge le pulvérisation continue et les applications industrielles.
Films minces fonctionnels résistants à la corrosion :
utilisés pour les films minces fonctionnels résistants à la corrosion et à l’usure et les revêtements de surface.
Films minces pour dispositifs électroniques et microstructures :
adaptés au dépôt de films minces de haute précision pour les dispositifs microélectroniques et les revêtements de surface fonctionnels.
Recherche et développement de processus :
largement utilisé dans les universités, les instituts de recherche et les laboratoires pour la recherche sur les films minces métalliques fonctionnels et les processus PVD.
Q1 : À quels processus de dépôt de films minces la cible de pulvérisation en alliage de titane-nickel est-elle adaptée ?
A1 : Elle peut être utilisée pour la pulvérisation magnétron à courant continu, la pulvérisation magnétron à radiofréquence et les processus de dépôt de films minces composites multicouches.
Q2 : Quel est le rôle du nickel dans l’alliage ?
R2 : Le nickel améliore la résistance à la corrosion et la ductilité du film mince, le rendant plus adapté aux revêtements fonctionnels et aux applications industrielles.
Q3 : Comment choisir la taille et la forme appropriées de la cible de pulvérisation en alliage titane-nickel ?
R3 : La taille et la forme de la cible sont choisies en fonction du modèle d’équipement de pulvérisation, de la taille du substrat et des exigences de dépôt. Des services de personnalisation sont disponibles.
Q4 : Quelles sont les précautions à prendre pour le stockage et le transport des cibles de pulvérisation TiNi ?
A4 : Conserver au sec, éviter l’humidité et les dommages mécaniques, et prévenir la contamination et la rupture de la surface.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans les cibles de pulvérisation à base de titane et d’alliages, fournissant des cibles de pulvérisation TiNi de haute pureté et de composition uniforme, ainsi que des solutions personnalisées pour garantir la qualité des films minces et la stabilité des processus pour les applications industrielles et de recherche.
Formule moléculaire : TiNi
Aspect : Matériau cible gris argenté
Densité : environ 6,45 g/cm³ : Environ 6,45 g/cm³
Point de fusion : Environ 1315 °C
Structure cristalline : Cubique (FCC)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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