Alliage de titane et d’aluminium

Cible de pulvérisation en alliage de titane et d’aluminium Présentation

La cible de pulvérisation en alliage
de titane et d’aluminium
est un matériau léger et très résistant qui combine la conductivité métallique et d’excellentes performances à haute température. Elle est largement utilisée dans le développement de films minces fonctionnels, de revêtements céramiques conducteurs, de dispositifs électroniques à haute température et de matériaux scientifiques en film mince.

Nous pouvons fournir des cibles de pulvérisation en alliage de titane et d’aluminium avec une composition uniforme et une structure dense, adaptées aux systèmes de pulvérisation magnétron à courant continu ou à radiofréquence. Veuillez nous contacter
pour obtenir des spécifications détaillées et des informations techniques.

Points forts du produit

Cible en alliage de titane et d’aluminium léger et très résistant
Excellente conductivité et stabilité thermique
Stabilité de la composition pendant la pulvérisation, bonne répétabilité du film
Convient pour le dépôt à haute température, sous vide et en atmosphère inerte
Grande cohérence des lots
Tailles et morphologies personnalisables
Convient à la préparation de films minces scientifiques et industriels

Applications de la cible de pulvérisation en alliage titane-aluminium

Dépôt de films minces fonctionnels :
peut être utilisé pour préparer des films minces fonctionnels hautement conducteurs et résistants aux températures élevées pour les appareils électroniques, les revêtements conducteurs et les environnements à haute température.
Céramiques conductrices et films minces composites :
grâce à leur excellente conductivité et leur stabilité chimique, les films minces TiAl et les films composites métal-céramique peuvent être préparés.
Recherche scientifique et développement de matériaux :
largement utilisés dans la recherche sur les films minces en alliage titane-aluminium, le développement de nouveaux matériaux et les tests de performance des films.
Revêtements résistants à la corrosion à haute température :
les films minces TiAl sont stables dans des environnements à haute température ou corrosifs et peuvent être utilisés pour la recherche sur les revêtements résistants à haute température, protecteurs et fonctionnels.

FAQ

Q1 : Quelle méthode de pulvérisation convient aux cibles en alliage titane-aluminium ?
A1 : Les cibles TiAl peuvent être utilisées pour la pulvérisation magnétron à courant continu et à radiofréquence. Elles présentent une excellente conductivité et s’adaptent à divers procédés de dépôt physique en phase vapeur (PVD).

Q2 : La composition des cibles en TiAl est-elle stable pendant le pulvérisation ?
R2 : Dans des conditions de processus appropriées, les cibles en TiAl conservent une composition chimique stable, ce qui se traduit par une bonne répétabilité et une bonne cohérence du film.

Q3 : Les cibles en TiAl conviennent-elles au dépôt à haute température ?
R3 : Oui, les cibles possèdent une excellente stabilité thermique et une excellente résistance aux chocs thermiques, ce qui les rend adaptées au dépôt de films minces à haute température.

Q4 : Dans quels domaines les films minces des cibles TiAl sont-ils utilisés ?
A4 : Ils sont principalement utilisés pour les revêtements conducteurs, les films minces fonctionnels, les dispositifs électroniques résistants aux hautes températures et le développement de matériaux de recherche pour films minces.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous sommes spécialisés dans la recherche et la fourniture de cibles de pulvérisation en alliage titane-aluminium haute performance, garantissant que les cibles de pulvérisation TiAl répondent aux normes industrielles et de recherche en termes de structure des matériaux, de densification et de compatibilité de pulvérisation, offrant ainsi une assurance fiable pour la préparation de films minces.