Les cibles de pulvérisation en
alliage
fer-nickel
sont des cibles fonctionnelles basées sur un système d’alliage fer-nickel, principalement utilisées pour la préparation de films minces magnétiques, de matériaux électroniques et de revêtements fonctionnels associés.
Nous proposons des cibles de pulvérisation en alliage fer-nickel dans différents rapports de composition et différentes tailles afin de répondre aux diverses exigences des processus de dépôt. Veuillez nous contacter
pour confirmer les paramètres techniques.
Rapport de composition contrôlable
Propriétés magnétiques stables
Structure uniforme
Compatible avec plusieurs processus de dépôt PVD
Tailles et rapports d’alliage personnalisés pris en charge
Approvisionnement stable
Matériaux pour films minces magnétiques : les alliages fer-nickel sont couramment utilisés pour préparer des films minces magnétiques doux ou fonctionnels, adaptés à la recherche et à la fabrication de capteurs, d’enregistrements magnétiques et de dispositifs connexes.
Matériaux électroniques et semi-conducteurs
: dans les composants électroniques et les processus semi-conducteurs, ces cibles en alliage peuvent être utilisées pour le dépôt de couches métalliques ou fonctionnelles, améliorant ainsi la cohérence des performances des films minces.
Revêtements fonctionnels et ingénierie des surfaces : le dépôt de films minces en alliage fer-nickel par pulvérisation peut améliorer la structure de la surface du matériau ou obtenir des propriétés fonctionnelles spécifiques.
Recherche scientifique et applications en laboratoire : convient à la recherche fondamentale dans les universités et les instituts de recherche sur les films minces en alliage, les mécanismes de croissance et l’optimisation des processus.
Q1 : Le pulvérisation cathodique DC ou RF convient-elle aux cibles de pulvérisation en alliage fer-nickel ?
A1 : La pulvérisation cathodique DC ou RF peut être choisie en fonction de la composition spécifique de l’alliage et des conditions de l’équipement.
Q2 : Le rapport fer/nickel dans l’alliage peut-il être ajusté ?
R2 : Oui, une production personnalisée avec différents rapports fer/nickel est possible en fonction des exigences de l’application.
Q3 : La cible de pulvérisation en alliage fer-nickel est-elle stable pendant une pulvérisation à long terme ?
R3 : Avec des paramètres de processus raisonnables, le processus de pulvérisation de la cible est stable, ce qui permet d’obtenir des films minces uniformes.
Q4 : La cible de pulvérisation en alliage fer-nickel est-elle plus adaptée à la recherche scientifique ou aux applications industrielles ?
A4 : Elle peut répondre aux besoins des expériences de recherche scientifique et convient également à certaines applications pilotes et industrielles.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais par des tiers disponibles sur demande
Nous nous concentrons depuis longtemps sur la recherche et la fourniture de cibles de pulvérisation en métal et en alliage, en mettant l’accent sur le contrôle de la composition, la cohérence du traitement et l’efficacité de la réponse technique. Nous pouvons fournir un soutien matériel fiable et durable pour les projets liés aux matériaux magnétiques et aux films minces électroniques.
Formule moléculaire : FeNi
Aspect : Gris argenté
Densité : 8,7 g/cm³
Structure cristalline : Cubique à faces centrées (FCC)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
Si vous avez besoin d'un service, veuillez nous contacter
