Alliage de cuivre et de silicium

Cibles de pulvérisation en alliage cuivre-silicium Présentation

Les cibles de pulvérisation en alliage
cuivre-silicium
sont des cibles de revêtement en alliage cuivre-silicium principalement utilisées pour le dépôt de films fonctionnels haute performance sur des composants microélectroniques et résistants à l’usure.

Nous fabriquons des cibles en alliage avec une composition précise et une microstructure uniforme. Contactez-nous
pour obtenir une documentation technique
détaillée et des informations sur les échantillons.

Points forts du produit

Forme des couches de siliciure à faible résistance
Revêtements denses et fortement liés
Excellente résistance à l’usure et à l’oxydation
Structure de cible uniforme et stable

Applications des cibles de pulvérisation en alliage de cuivre et de silicium

Interconnexions microélectroniques : sert de matériau de contact ou de couche barrière de diffusion dans les dispositifs à semi-conducteurs, garantissant des connexions de circuits stables et fiables.
Revêtements protecteurs résistants à l’usure : appliqués sur les outils de coupe et les composants mécaniques critiques pour améliorer considérablement la résistance à l’usure et à l’oxydation à haute température.
Photovoltaïque et écrans : sert de matériau d’électrode pour les cellules solaires
à couche mince ou pour le dépôt de films conducteurs dans certaines technologies d’affichage.
Films résistifs de précision : utilisés pour fabriquer des éléments résistifs à couche mince présentant une excellente stabilité thermique et une grande précision.

FAQ

Q1 : Quels sont les principaux composants du film formé à partir de cibles en cuivre-silicium ?
A1 : Principalement des composés cuivre-silicium (siliciures) à faible résistance, formés par traitement thermique ultérieur ou par réactions in situ, qui présentent une excellente conductivité et une excellente stabilité thermique.

Q2 : Comment la teneur en silicium affecte-t-elle les propriétés du film ?
R2 : La teneur en silicium influence directement le type de siliciure formé, ainsi que la résistivité, la dureté et la stabilité thermique du film. Une formulation précise est nécessaire en fonction des objectifs spécifiques de l’application.

Q3 : Quelle est la conductivité de ce film ?
R3 : Le film de composé de cuivre-silicium obtenu présente une bonne conductivité avec une résistivité comprise entre les niveaux métalliques et semi-conducteurs, ce qui le rend adapté à des applications électroniques spécifiques.

Q4 : Quels sont les principaux avantages par rapport aux cibles en cuivre pur ?
A4 : Les principaux avantages résident dans la capacité du silicium à supprimer efficacement la diffusion des atomes de cuivre, à améliorer la stabilité thermique et la résistance à l’oxydation, et à permettre la formation de siliciures fonctionnels par des réactions chimiques.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous sommes spécialisés dans la R&D et la production de cibles en alliage haute performance. Grâce à notre connaissance approfondie de la science des matériaux et à nos capacités de fabrication de précision, nous garantissons des performances exceptionnelles et une cohérence d’un lot à l’autre. Engagés à fournir des solutions techniques professionnelles et une assurance d’approvisionnement fiable, nous sommes votre partenaire de confiance.