Les cibles de pulvérisation
en cuivre-germanium
sont des cibles en alliage de cuivre-germanium principalement utilisées pour le dépôt de films minces fonctionnels et de matériaux semi-conducteurs, adaptées aux processus exigeant une composition et des performances précises du film.
Nous proposons des cibles de pulvérisation en CuGe avec différents rapports cuivre-germanium et dans différentes tailles, et offrons un service de personnalisation des processus et de conseil technique. Veuillez nous contacter
pour obtenir des solutions détaillées.
Rapport de composition cuivre-germanium contrôlable
Densité uniforme de la cible
Structure interne stable
Grande uniformité de dépôt du film
Processus de pulvérisation stable et fiable
Convient pour un contrôle précis du processus
Excellente cohérence des lots
Préparation de films minces
semi-conducteurs
: les cibles CuGe sont utilisées pour déposer des films minces cuivre-germanium haute performance, répondant aux exigences de conductivité et d’uniformité de composition des dispositifs semi-conducteurs. Recherche sur les dispositifs
optoélectroniques
et photovoltaïques : dans les matériaux optoélectroniques et les films minces photovoltaïques, les films minces de cuivre-germanium peuvent être ajustés pour obtenir des propriétés électriques et optiques, ce qui permet d’optimiser les dispositifs.
Couche précurseur pour les films minces composites à plusieurs composants : les films minces CuGe peuvent servir de base pour les films minces composites ou les couches fonctionnelles, garantissant l’uniformité et la stabilité des processus ultérieurs.
Développement de processus et validation expérimentale : convient aux étapes de laboratoire et à l’échelle pilote, permettant de vérifier l’impact de différents paramètres de pulvérisation sur la structure et les performances des films minces.
Q1 : Quelles méthodes de pulvérisation conviennent aux cibles de pulvérisation CuGe ?
A1 : Elles conviennent généralement à la pulvérisation magnétron et peuvent également être utilisées dans des conditions spécifiques de pulvérisation CC. Les solutions spécifiques dépendent des conditions de l’équipement.
Q2 : Le rapport cuivre-germanium a-t-il une incidence significative sur les performances du film mince ?
R2 : L’impact est significatif. Les différents rapports de composition ont une incidence directe sur les propriétés électriques, structurelles et optiques du film mince.
Q3 : Quel est le rôle de la densité de la cible dans la stabilité du pulvérisation ?
R3 : Une densité plus élevée contribue à réduire la génération de particules et améliore la cohérence du dépôt du film mince.
Q4 : Précautions à prendre pour le stockage des cibles CuGe ?
R4 : Il est recommandé de les stocker dans un environnement sec et hermétique, en évitant l’humidité et la contamination de surface afin de garantir les performances de pulvérisation.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous avons une grande expérience dans la préparation et le contrôle qualité des cibles de pulvérisation en alliage à base de cuivre. Nous gérons rigoureusement le rapport de composition et la structure interne afin de garantir l’uniformité et la stabilité de la composition des cibles CuGe dans le dépôt de couches minces, fournissant ainsi un support matériel fiable pour la recherche scientifique et les applications industrielles.
Formule chimique : CuGe
Aspect : Cible de pulvérisation dense, gris argenté à gris métallique
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
Si vous avez besoin d'un service, veuillez nous contacter
