Alliage de cuivre et de chrome

Cibles de pulvérisation en alliage cuivre-chrome – Présentation

Les cibles de pulvérisation
en cuivre-chrome
sont des cibles en alliage qui offrent un équilibre entre conductivité et résistance à la chaleur. Elles sont principalement utilisées dans les processus de dépôt physique en phase vapeur pour les appareils électroniques et les films minces fonctionnels.

Nous proposons des cibles de pulvérisation avec différents rapports cuivre-chrome et dans différentes tailles, permettant un traitement personnalisé et une collaboration technique
. Veuillez nous contacter
pour obtenir des solutions détaillées.

Points forts du produit

Répartition uniforme de la composition de l’alliage
Conductivité stable
Résistance aux températures élevées et à la pulvérisation
Densité de surface élevée de la cible
Bonne adhérence du film
Compatible avec divers systèmes de pulvérisation
Compatible avec les formes rondes, rectangulaires et irrégulières

Applications des cibles de pulvérisation en cuivre-chrome

Interconnexions
de semi-conducteurs
et films minces fonctionnels : utilisées pour déposer des films métalliques conducteurs ou fonctionnels afin de répondre aux exigences de stabilité et de cohérence des circuits intégrés.
Contacts électriques et revêtements résistants à l’usure : utilisés dans les matériaux de contact électrique et les films résistants à l’usure, pour équilibrer la conductivité et la durée de vie.
Protection industrielle et revêtements fonctionnels : adaptés à la préparation de films minces fonctionnels résistants à la chaleur, à la corrosion ou composites, améliorant les propriétés de surface des composants industriels.
Recherche scientifique et traitement des films minces : largement utilisés dans l’étude des nouveaux films minces en alliage et des propriétés des matériaux, garantissant la répétabilité des expériences et la contrôlabilité des films.

FAQ

Q1 : Quels sont les avantages des cibles CuCr par rapport aux cibles en cuivre pur ?
A1 : L’ajout de chrome améliore considérablement la résistance à la chaleur et la capacité anti-migration, rendant le film plus stable dans des conditions de température élevée.

Q2 : Cette cible en alliage convient-elle au pulvérisation cathodique à courant continu ou à radiofréquence ?
R2 : En raison de la bonne conductivité de l’alliage, la pulvérisation cathodique à courant continu est généralement suffisante pour obtenir des résultats de dépôt stables.

Q3 : Le rapport cuivre-chrome affecte-t-il les performances du film ?
R3 : Oui, différents rapports de composants affecteront la résistivité, la dureté et la résistance à la chaleur du film. Le rapport approprié doit être sélectionné en fonction de l’application.

Q4 : La cible nécessite-t-elle un prétraitement avant utilisation ?
A4 : En général, aucun traitement complexe n’est nécessaire ; un simple nettoyage suffit. Lors de la première utilisation, un court temps de pré-pulvérisation peut être effectué pour stabiliser la surface de la cible.

Rapports

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous nous concentrons depuis longtemps sur la production et le contrôle qualité des cibles de pulvérisation en alliage. De la proportion des matières premières aux processus de densification des cibles, nous gérons rigoureusement tous les aspects afin de garantir que nos cibles en alliage de cuivre et de chrome répondent aux besoins de la recherche scientifique et des applications industrielles en termes de cohérence, de stabilité et de fiabilité des lots.