Les cibles de pulvérisation en alliage
de titane et magnésium
sont composées de titane et de magnésium, combinant la résistance mécanique du titane avec la légèreté et l’excellente conductivité électrique du magnésium. Ces cibles conviennent à divers procédés de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour la préparation de films minces métalliques légers, de revêtements composites fonctionnels et de matériaux de traitement de surface pour les dispositifs microélectroniques.
Nous proposons des cibles de pulvérisation en alliage de titane et de magnésium de composition uniforme et de structure dense, adaptées aux systèmes de pulvérisation magnétron à courant continu ou à radiofréquence. Des tailles, des formes et des méthodes de liaison
personnalisées peuvent être fournies pour répondre aux besoins de la recherche et de la production industrielle.
La conception de l’alliage optimise les propriétés mécaniques et la légèreté du film.
Bonne adhérence du film et stabilité de l’interface.
Convient à divers substrats et conditions de procédé PVD.
La composition stable de la cible favorise la cohérence du film.
Prend en charge le pulvérisation continue et les applications industrielles.
Films minces métalliques fonctionnels légers :
convient aux films minces fonctionnels légers dans les industries aérospatiale, automobile et électronique.
Revêtements composites et modification de surface :
utilisé pour préparer des films minces composites qui combinent résistance et légèreté, améliorant ainsi les performances et la durabilité de la surface.
Dispositifs électroniques et films minces à microstructure :
convient au dépôt de films minces de haute précision pour les dispositifs microélectroniques et les revêtements de surface fonctionnels.
Recherche scientifique et développement de processus :
largement utilisé dans les universités et les instituts de recherche pour l’étude des films minces métalliques légers et des paramètres de processus.
Q1 : Pour quels types de films minces les cibles de pulvérisation en alliage de titane-magnésium sont-elles généralement utilisées ?
Principalement utilisées pour les films minces métalliques légers, les revêtements composites et le dépôt de films minces fonctionnels.
Q2 : Quel est le rôle principal de l’introduction du magnésium dans les alliages de titane-magnésium ?
R2 : Le magnésium contribue à réduire la densité du film, ce qui permet d’alléger le poids tout en conservant la conductivité.
Q3 : Quels sont les substrats adaptés aux cibles de pulvérisation en alliage titane-magnésium ?
R3 : Elles conviennent généralement aux surfaces en silicium, en verre, en métal et aux substrats techniques.
Q4 : Quels sont les avantages des films minces en titane-magnésium en termes de performances ?
R4 : Les films combinent une résistance mécanique élevée, une bonne adhérence et une grande légèreté.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans les cibles de pulvérisation en alliage à base de titane et les matériaux avancés pour films minces, en mettant l’accent sur la densité des cibles, la cohérence de la composition et l’adaptabilité des processus. Nous fournissons des solutions matérielles stables et fiables pour le dépôt de films minces en alliage titane-magnésium.
Formule moléculaire : TiMg
Aspect : Matériau cible gris argenté ou à éclat métallique
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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