Les cibles de pulvérisation en oxyde de zinc (dopé au Ga)
sont des cibles en oxyde hautement transparentes et hautement conductrices, principalement utilisées pour la préparation de films minces conducteurs transparents, largement utilisés dans les écrans, le photovoltaïque et l’optoélectronique.
Nous proposons des solutions de cibles personnalisées avec différents ratios de dopage, tailles et spécifications de densité. Veuillez nous contacter
pour obtenir les paramètres techniques
et des suggestions d’application.
Répartition stable du dopage au Ga
Excellente conductivité et transmittance des films minces
Densité élevée des cibles et décharge stable
Convient au pulvérisation cathodique DC et RF
Bonne cohérence des lots
Répond aux besoins de la recherche et de la production de masse
Couches conductrices transparentes (TCO) : ce matériau peut être utilisé pour préparer des couches conductrices transparentes à haute transmittance et faible résistivité, adaptées au remplacement des films minces ITO traditionnels.
Écrans plats et écrans tactiles : utilisés pour former des films électrodes stables dans les dispositifs LCD, OLED et les écrans tactiles, améliorant la cohérence de l’affichage.
Cellules solaires à couche mince : en tant que matériau d’électrode avant ou de couche fonctionnelle, il peut améliorer l’efficacité d’absorption de la lumière et renforcer les performances électriques globales du dispositif.
Dispositifs optoélectroniques et capteurs : convient aux structures optoélectroniques à couche mince telles que les détecteurs d’ultraviolets et les capteurs de gaz, dans les applications nécessitant une grande uniformité de la couche mince.
Q1 : Quelle est la différence entre les cibles d’oxyde de zinc dopé au Ga et les cibles d’oxyde de zinc ordinaires ?
R1 : L’introduction de Ga améliore considérablement la conductivité du film mince tout en conservant une bonne transparence optique.
Q2 : À quel type de procédé de pulvérisation ce type de cible est-il adapté ?
R2 : Couramment utilisé dans la pulvérisation magnétron à courant continu et la pulvérisation RF ; le procédé spécifique dépend de la configuration de l’équipement et des exigences du film.
Q3 : Le taux de dopage peut-il être personnalisé ?
R3 : Oui, différents schémas de dopage sont disponibles pour répondre aux exigences de résistivité et de transmittance de différentes applications.
Q4 : La cible est-elle susceptible de se fissurer pendant son utilisation ?
R4 : En optimisant le processus de frittage et en contrôlant la densité, le risque de fissuration causé par les contraintes thermiques peut être efficacement réduit.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans la préparation stable et l’adaptation des applications des matériaux de pulvérisation d’oxydes fonctionnels, en mettant l’accent sur le contrôle de la structure des cibles, la cohérence des performances et les capacités d’approvisionnement à long terme. Nous pouvons fournir un soutien fiable et reproductible en matière de matériaux pour les clients du secteur de la recherche et de l’industrie.
Formule moléculaire : ZnO-5wt%Ga
Aspect : Cible céramique blanche et dense avec une surface brillante et uniforme.
Densité : Environ 5,60 g/cm³
Structure cristalline : Wurtzite hexagonale (P6₃mc)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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