ULPMAT

Oxyde de manganèse

Chemical Name:
Oxyde de manganèse
Formula:
MnO
Product No.:
250802
CAS No.:
1344-43-0
EINECS No.:
215-695-8
Form:
Cible de pulvérisation
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
250802ST001 MnO 99.9% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
250802ST002 MnO 99.9% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
250802ST003 MnO 99.9% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
250802ST004 MnO 99.9% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
250802ST005 MnO 99.9% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
250802ST006 MnO 99.95% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
250802ST007 MnO 99.95% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
250802ST008 MnO 99.95% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
250802ST001
Formula
MnO
Purity
99.9%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
250802ST002
Formula
MnO
Purity
99.9%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
250802ST003
Formula
MnO
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
250802ST004
Formula
MnO
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
250802ST005
Formula
MnO
Purity
99.9%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
250802ST006
Formula
MnO
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
250802ST007
Formula
MnO
Purity
99.95%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
250802ST008
Formula
MnO
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm

Cible de pulvérisation d’oxyde de manganèse Présentation

Les cibles de pulvérisation
d’oxyde de manganèse (II)
sont composées d’oxyde de manganèse monovalent (MnO) et sont couramment utilisées dans les processus de pulvérisation magnétron (PVD) pour produire des matériaux en couches minces de haute qualité. Ces cibles sont largement utilisées dans la fabrication de composants électroniques, de céramiques, de verre et d’autres matériaux haute performance.

Nous proposons des cibles de pulvérisation à l’oxyde de manganèse de différentes tailles, puretés et spécifications personnalisées afin de répondre à divers besoins en matière de dépôt de couches minces. N’hésitez pas à nous contacter
.

Points forts du produit

Cible de haute pureté
Structure dense
Forte stabilité chimique
Taille des particules uniforme
Tailles personnalisables
Convient à la pulvérisation de haute précision
Compatible avec divers équipements de pulvérisation
Contrôle qualité strict

Applications des cibles de pulvérisation à l’oxyde de manganèse

Fabrication de dispositifs électroniques et de semi-conducteurs
: utilisées pour le dépôt de couches minces sur des composants semi-conducteurs, elles sont particulièrement adaptées à la fabrication de films conducteurs transparents, de dispositifs de mémoire et d’éléments de capteurs.

Industrie de la céramique et du verre : couramment utilisées dans la fabrication de céramiques et de verre pour déposer des couches minces décoratives ou fonctionnelles, elles contribuent à améliorer la couleur et les performances des produits.

Batteries
et matériaux de stockage d’énergie : le MnO, en tant que composant important des matériaux de batterie, est fréquemment utilisé dans la recherche et le développement de matériaux cathodiques pour batteries lithium-ion, contribuant à améliorer les performances de stockage d’énergie et la stabilité des batteries.

Revêtements de surface et films protecteurs : les cibles de pulvérisation d’oxyde de manganèse peuvent être utilisées pour préparer des revêtements de surface résistants à l’usure et à la corrosion, largement utilisés pour la modification de surface de matériaux tels que les métaux et les plastiques.

FAQ

Q1 : Quelles sont les principales utilisations de ces cibles ?
A1 : Elles sont principalement utilisées pour le dépôt de films minces dans la technologie de pulvérisation magnétron, largement appliquée dans les industries de l’électronique, de la céramique et du verre.

Q2 : Quels types d’équipements de pulvérisation conviennent aux cibles de pulvérisation MnO ?
A2 : Elles conviennent aux équipements de pulvérisation DC et RF, répondant aux exigences de dépôt de différentes applications.

Q3 : Comment sélectionner les exigences de pureté pour les cibles de pulvérisation MnO ?
A3 : Lors de la sélection de la pureté de la cible, il est nécessaire de tenir compte des exigences spécifiques de l’application. Une pureté plus élevée est requise dans les domaines de l’électronique et des semi-conducteurs, tandis qu’une pureté plus faible est généralement requise pour les applications céramiques ou verrières.

Q4 : Les cibles de pulvérisation MnO nécessitent-elles des conditions de stockage particulières ?
A4 : Elles doivent être stockées dans un environnement sec, bien ventilé et protégé de la lumière, en évitant tout contact avec l’eau ou des oxydants puissants afin de garantir leur stabilité.

Rapports

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous nous engageons à fournir des cibles de pulvérisation MnO de haute pureté et de haute qualité. Notre système de contrôle qualité rigoureux garantit la cohérence et la stabilité des performances de chaque lot. Nous proposons également des services personnalisés pour répondre aux différents besoins de nos clients. Notre équipe technique fournit une assistance et des conseils complets afin de garantir l’application efficace de nos produits dans diverses préparations de films minces haute performance.

Formule moléculaire : MnO
Poids moléculaire : 70.94 g/mol
Aspect : Noir
Densité : 5.36 g/cm³
Structure cristalline : Cubique (type NaCl)

Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.

Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.

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