Les substrats
en oxyde de lithium et de niobium
sont des substrats fonctionnels hautement stables, adaptés à la croissance de couches minces et à la fabrication de dispositifs électroniques. Ils sont largement utilisés dans la recherche sur les batteries lithium-ion, les dispositifs optoélectroniques et le dépôt de revêtements fonctionnels.
Nous proposons des substrats LNO de différentes tailles et épaisseurs, avec des surfaces lisses et des orientations cristallines sélectionnables pour répondre aux besoins de la recherche et des applications industrielles. Contactez-nous
dès maintenant pour obtenir des échantillons et des solutions personnalisées !
Orientation cristalline contrôlable, avantageuse pour la croissance de couches minces
Surface lisse, faible taux de défauts
Taille et épaisseur personnalisables
Haute stabilité thermique, adaptée aux processus à haute température
Prise en charge de la recherche et des applications industrielles
Réponse rapide de notre équipe technique
Dépôt de couches minces :
les substrats LNO sont utilisés dans les processus de préparation de couches minces tels que la pulvérisation magnétron, le PLD et le CVD afin de garantir l’uniformité et la qualité cristalline des couches.
Recherche sur les batteries lithium-ion :
en tant que substrat fonctionnel, il prend en charge le dépôt et les tests de performance de matériaux d’électrodes haute performance.
Dispositifs optoélectroniques et microélectroniques :
fourniture de substrats plats à orientation cristalline adaptés à la croissance de capteurs, de dispositifs optiques et de structures microélectroniques.
Q1 : Quelles sont les options d’orientation cristalline disponibles pour les substrats LNO ?
A1 : Plusieurs orientations cristallines sont disponibles, telles que (001), (110), etc., sélectionnées en fonction des exigences expérimentales.
Q2 : La taille et l’épaisseur du substrat peuvent-elles être personnalisées ?
R2 : Oui, nous pouvons fournir différentes spécifications en fonction des exigences des équipements du client.
Q3 : Quelle est la rugosité de surface du substrat LNO ?
R3 : La surface est polie avec précision, avec une rugosité inférieure au niveau nanométrique, adaptée au dépôt de films minces de haute précision.
Q4 : Peut-il être utilisé pour des processus de film mince à haute température ?
A4 : Convient au traitement à haute température, avec une grande stabilité des matériaux, garantissant une croissance stable du film mince.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous avons de nombreuses années d’expérience dans la production de substrats pour matériaux fonctionnels. Nos produits ont des surfaces lisses et des orientations cristallines contrôlables, ce qui facilite la recherche scientifique et les applications industrielles. Notre équipe technique peut fournir des solutions personnalisées et une réponse rapide pour aider les clients à réaliser efficacement le dépôt de couches minces et la fabrication de dispositifs.
Poids moléculaire : 147,85 g/mol
Aspect : Incolore et transparent ou légèrement teinté monocristal/galette polie.
Densité : 4,64 g/cm³ : 4,64 g/cm³
Point de fusion : 1253 °C
Structure cristalline : Trigonal
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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