Métal cuivré

Présentation des cibles rotatives en cuivre

Les cibles rotatives
en cuivre
sont principalement utilisées dans les processus de pulvérisation cathodique continue à grande échelle et de longue durée, adaptés à la préparation de films minces conducteurs avec un rendement de dépôt élevé.

Nous pouvons personnaliser la structure et les paramètres de la cible rotative en fonction de la taille de l’équipement et des exigences du processus, en assurant une collaboration technique et une vérification des échantillons. Veuillez nous contacter
pour obtenir des solutions.

Points forts du produit

Matière première en cuivre de haute pureté
Taux d’utilisation élevé de la structure rotative
Excellente conductivité thermique
Composition stable du film
Convient à la production continue de qualité industrielle Longueur et diamètre
personnalisables

Applications des cibles rotatives en cuivre

Revêtement d’écrans plats : utilisé pour la préparation de lignes conductrices et de couches fonctionnelles, répondant aux exigences de dépôt uniforme sur des substrats de grande taille. Couches d’interconnexion
de semi-conducteurs
: convient au dépôt de films d’interconnexion en cuivre, aux processus nécessitant une stabilité et une répétabilité élevées. Énergie
solaire
et champs photovoltaïques : utilisé pour la préparation de films d’électrodes et de collecteurs de courant, permettant un fonctionnement continu à long terme.
Revêtements fonctionnels et revêtements industriels : appliqué à des scénarios de dépôt sur de grandes surfaces pour des revêtements résistants à l’usure, conducteurs et décoratifs.

FAQ

Q1 : Quels sont les avantages d’une cible rotative par rapport à une cible plane ?
A1 : Les cibles rotatives améliorent considérablement l’utilisation des matériaux et permettent une pulvérisation stable à plus long terme.

Q2 : Ce produit prend-il en charge des tailles personnalisées ?
R2 : Oui, le diamètre, la longueur et la structure de l’interface peuvent être personnalisés en fonction du modèle d’équipement.

Q3 : À quel équipement de pulvérisation convient-il ?
R3 : Principalement utilisé dans les systèmes de pulvérisation magnétron, en particulier les équipements à cathode rotative de qualité industrielle.

Q4 : Quelles précautions doivent être prises pendant le transport et le stockage ?
R4 : Utilisez un emballage anti-oxydation et antichoc. Il est recommandé de le stocker dans un environnement sec et hermétique.

Rapports

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous avons une grande expérience dans la fabrication de cibles métalliques et l’adaptation des structures de cibles rotatives, et nous fournissons une assistance continue et fiable, depuis les matériaux et le traitement jusqu’à l’adaptation des applications, afin d’aider nos clients à améliorer l’efficacité du revêtement et la cohérence des produits.