Les cibles de pulvérisation
en hexafluoroaluminate de sodium
sont des matériaux inorganiques haute performance utilisés dans le dépôt de couches minces pour les industries électroniques, optiques et de revêtement. Leur composition garantit un dépôt uniforme, une excellente adhérence et une qualité de film constante dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD).
Nous fournissons des cibles de pulvérisation en Na3AlF6 de différentes tailles adaptées aux systèmes PVD industriels. Pour toute demande ou commande, veuillez nous contacter
directement.
Haute stabilité sous dépôt sous vide
Composition uniforme pour des films minces homogènes
Excellente adhérence aux substrats
Convient aux applications électroniques, optiques et de revêtement
Faible contamination et haute pureté pour des performances fiables
Contrôle qualité et tests rigoureux
Industrie électronique : utilisée pour le revêtement de couches diélectriques, de films isolants et de couches protectrices dans les appareils électroniques.
Optique
et photonique : produit des revêtements optiques de haute qualité avec une excellente transparence et uniformité.
Revêtements protecteurs : appliqué dans les revêtements décoratifs et fonctionnels pour la résistance à la corrosion et à l’usure.
Recherche et développement : convient pour le dépôt expérimental de films minces et les études en science des matériaux.
Q1 : Quelles industries utilisent couramment les cibles de pulvérisation Na3AlF6 ?
A1 : Les laboratoires d’électronique, d’optique, de revêtements et de recherche utilisent fréquemment ces cibles pour le dépôt de films minces.
Q2 : Comment les cibles Na₃AlF₆ doivent-elles être stockées avant utilisation ?
R2 : Stockez-les dans un environnement sec et frais, à l’abri de l’humidité et des chocs mécaniques afin de préserver l’intégrité de leur surface.
Q3 : Les cibles de pulvérisation Na₃AlF₆ peuvent-elles être utilisées dans les systèmes de pulvérisation magnétron ?
R3 : Oui, elles sont entièrement compatibles avec les systèmes de pulvérisation magnétron et autres systèmes de pulvérisation PVD pour un dépôt uniforme de couches minces.
Q4 : Quels sont les avantages de l’utilisation de cibles Na₃AlF₆ dans le dépôt de couches minces ?
A4 : Elles offrent des films uniformes, une excellente adhérence, une faible contamination et des taux de dépôt stables, améliorant ainsi les performances globales des dispositifs.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous fournissons des cibles de pulvérisation Na₃AlF₆ de haute qualité avec un approvisionnement fiable, un contrôle qualité rigoureux et des solutions sur mesure pour les applications PVD. Nos produits garantissent des performances constantes des couches minces, une excellente adhérence et une contamination minimale pour les applications électroniques, optiques et de recherche.
Formule moléculaire : Na3AlF6
Poids moléculaire : 209.94 g/mol
Aspect : Bloc cible blanc et dense
Densité : 2,9-3,0 g/cm³ (cible frittée)
Point de fusion : 1000 °C
Structure cristalline : Monoclinique
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
Si vous avez besoin d'un service, veuillez nous contacter
