La cible de pulvérisation de fluorure d’indium (InF3) est un fluorure de haute pureté utilisé pour le dépôt efficace de couches minces. Elle est largement utilisée dans les industries des semi-conducteurs, de l’optoélectronique et des couches minces. Cette cible de fluorure d’indium présente d’excellentes propriétés de pulvérisation, permettant le dépôt de couches minces uniformes et denses de fluorure d’indium. Elle joue un rôle clé dans des applications telles que la technologie d’affichage, la communication par fibre optique et les appareils électroniques qui nécessitent des revêtements de haute performance.
Efficacité élevée de la pulvérisation : La cible de pulvérisation de fluorure d’indium (InF3) possède d’excellentes propriétés de pulvérisation, permettant le dépôt de films uniformes et denses. Elle est idéale pour les applications de couches minces de fluorure d’indium dans la fabrication de haute précision.
Garantie de haute pureté : Notre cible de fluorure d’indium est fabriquée à partir d’un matériau pur à 99,99 %, ce qui garantit une excellente qualité de film mince, des défauts minimes et une grande constance dans l’application.
Polyvalence dans tous les secteurs d’activité : La cible de pulvérisation InF3 peut être utilisée dans diverses industries, notamment l’optoélectronique, la technologie des semi-conducteurs, la communication par fibre optique et la technologie d’affichage.
Options de personnalisation : Nous offrons la possibilité de personnaliser la taille des particules, la pureté et la méthode de pulvérisation, ce qui permet d’adapter la cible de fluorure d’indium à des applications spécifiques.
Stabilité à long terme : Cette cible de pulvérisation de fluorure d’indium garantit une stabilité des performances à long terme dans les applications de haute technologie, ce qui la rend idéale pour les dispositifs optoélectroniques avancés et les semi-conducteurs.
Applications des cibles de pulvérisation : La cible de pulvérisation du fluorure d’indium (InF3) est principalement utilisée dans les processus de dépôt de couches minces, notamment dans la production de couches minces de fluorure d’indium pour les écrans, les capteurs et les systèmes de communication par fibre optique. La cible permet de déposer des films uniformes de haute qualité avec d’excellentes propriétés optiques et électriques.
Semi-conducteurs Fabrication de dispositifs semi-conducteurs : Les cibles de pulvérisation InF3 sont utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs pour le dépôt de films de fluorure d’indium de haute performance, adaptés aux composants électroniques nécessitant des revêtements de fluor.
Appareils optoélectroniques : Cette cible de pulvérisation de fluorure d’indium est cruciale pour la fabrication de dispositifs optoélectroniques tels que les DEL, les diodes laser, les photodétecteurs et les modulateurs, en particulier dans les gammes de lumière UV et visible.
Fibres optiques Communication par fibre optique : Les cibles de pulvérisation cathodique de fluorure d’indium sont utilisées dans les systèmes de communication par fibre optique pour la modulation optique et la conversion photoélectrique, ce qui permet la transmission de données à grande vitesse.
Revêtements de haute précision : Cette cible InF3 est utilisée dans les revêtements à haute efficacité pour les écrans, les capteurs et les dispositifs optiques de haute technologie, fournissant des couches protectrices et fonctionnelles pour diverses applications industrielles.
Garantie de haute pureté : Nous fournissons des cibles de pulvérisation de fluorure d’indium d’une pureté de 99,99 %, garantissant un dépôt de couches minces de haute qualité et cohérent, ainsi que d’excellentes performances des matériaux.
Services de personnalisation : Nous proposons des solutions sur mesure pour différentes applications de cibles de pulvérisation de fluorure d’indium, avec des tailles de particules, des niveaux de pureté et des méthodes de pulvérisation personnalisables pour répondre aux besoins spécifiques des clients.
Livraison efficace : Nous garantissons une livraison dans les délais et prenons en charge les commandes urgentes, afin que les clients respectent leurs calendriers de production.
Assistance technique experte : Nos techniciens
Chaque lot de produits est accompagné d’un certificat d’analyse (COA), d’une fiche technique (TDS), d’une fiche de données de sécurité (MSDS ) et d’un rapport d’identification d’expédition. Des rapports de tests effectués par des tiers sont également disponibles sur demande.
Formule chimique : InF₃
Poids moléculaire : 209,8 g/mol
Pureté : 99.9% (personnalisable)
Aspect : Poudre ou cible blanche à blanc cassé
Densité : ~6,3 g/cm³
Point de fusion : ~ 730°C
Point d’ébullition : Sublime à ~ 1300°C
Structure cristalline : Cubique (type NaCl)
Méthode de pulvérisation : Pulvérisation DC (personnalisable)
Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et emballage pour éviter la contamination et l’humidité.
Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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