Les cibles de pulvérisation
en oxyde de cuivre et d’aluminium
sont des cibles en oxyde métallique de haute pureté principalement utilisées pour la préparation de films minces optoélectroniques, de films conducteurs et de revêtements fonctionnels afin d’obtenir des couches de film uniformes et des performances stables.
Nous proposons des cibles de pulvérisation en oxyde de cuivre et d’aluminium avec différents rapports de composition, tailles et niveaux de pureté. Nous proposons des services de traitement personnalisé et de consultation technique. Veuillez nous contacter
pour obtenir des solutions.
Haute pureté
Grande uniformité de composition
Dépôt de film stable
Faible teneur en impuretés, chimiquement stable
Conductivité et propriétés optiques fiables
Compatible avec divers équipements de pulvérisation
Prend en charge les formes circulaires, carrées et irrégulières personnalisées ainsi que le collage
et
Films minces
pour semi-conducteurs
et dispositifs électroniques : utilisés pour le dépôt de films conducteurs et fonctionnels dans les dispositifs électroniques, améliorant l’uniformité du film et les performances des dispositifs. Dispositifs
optoélectroniques
et d’affichage : utilisés dans les écrans OLED, LCD et tactiles pour garantir des films conducteurs uniformes et hautement transparents.
Revêtements fonctionnels et films industriels : adaptés au dépôt de films conducteurs, résistants à la corrosion ou optiquement fonctionnels, améliorant les propriétés ajoutées des matériaux industriels.
Q1 : Le pulvérisation d’oxyde de cuivre et d’aluminium (CA) est-elle adaptée à la pulvérisation DC ou RF ?
R1 : Le CA est un matériau isolant ou semi-conducteur, et la pulvérisation RF est généralement recommandée pour obtenir des films stables.
Q2 : Le rapport de composition de la cible de pulvérisation affecte-t-il les performances de dépôt ?
R2 : Oui, différents rapports cuivre-aluminium affecteront la conductivité, les propriétés optiques et le taux de dépôt du film. Le rapport approprié doit être sélectionné en fonction des exigences du processus.
Q3 : La taille et la forme de la cible de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées pour s’adapter aux différents équipements et besoins du processus ?
A3 : Oui, nous proposons des cibles de pulvérisation personnalisées de forme ronde, carrée et irrégulière pour répondre aux différentes exigences des équipements et des processus de pulvérisation.
Q4 : Quelles précautions faut-il prendre lors du stockage et de la manipulation de la cible de pulvérisation ?
R4 : Il est recommandé de conserver la cible dans un environnement sec, d’éviter les chocs violents et d’empêcher tout contact avec l’eau ou des substances acides/alcalines afin de garantir l’intégrité de la cible.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous nous concentrons sur la recherche, le développement et la fourniture de cibles de pulvérisation en matériaux fonctionnels de haute pureté, en contrôlant strictement l’uniformité de la composition, la stabilité des lots et les performances de dépôt de film, afin de fournir des cibles de pulvérisation en cuivre et en oxyde d’aluminium fiables et traçables pour la recherche scientifique, l’industrie et les dispositifs optoélectroniques.
Formule chimique : CuAlO₂
Poids moléculaire : 143.06 g/mol
Aspect : Matériau cible dense rouge à rouge brunâtre
Point de fusion : Environ 1 290 °C
Structure cristalline : Trigonal
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
Si vous avez besoin d'un service, veuillez nous contacter
