Les cibles de pulvérisation en
alliage
cuivre-étain
sont des matériaux de dépôt en couche mince haute performance, principalement utilisés dans la fabrication de dispositifs électroniques, de films minces conducteurs et de matériaux destinés à la recherche scientifique.
Nous proposons des cibles de pulvérisation en alliage cuivre-étain de composition uniforme et de haute densité, personnalisables en différentes tailles et structures. Veuillez nous contacter
pour obtenir des données techniques
et des informations sur les échantillons.
Composition stable de l’alliage
Matériau cible dense et uniforme
Performances de pulvérisation stables
Composition du film homogène
Finition de surface fine
Options de liaison et de fond de panier en option
Compatible avec divers équipements de pulvérisation
Préparation de films minces pour dispositifs électroniques : cette cible peut être utilisée pour déposer des films minces conducteurs uniformes et stables, fournissant une base matérielle fiable pour les dispositifs électroniques. Films minces
optoélectroniques
et fonctionnels : forme des films minces avec une forte adhérence et des performances stables grâce à des processus de pulvérisation pour une utilisation dans des dispositifs fonctionnels optoélectroniques.
Ingénierie de surface et recherche sur les revêtements : peut générer des revêtements uniformes et à haute densité, améliorant la résistance à la corrosion et la conductivité des surfaces des matériaux.
Recherche scientifique et exploration des processus : largement utilisé dans les instituts de recherche pour étudier la relation entre les conditions de formation des films, leur structure et leurs propriétés.
Q1 : Quelles méthodes de pulvérisation sont adaptées aux cibles en alliage cuivre-étain ?
A1 : Elles peuvent être utilisées pour la pulvérisation DC et RF. La méthode spécifique doit être choisie en fonction des conditions de l’équipement.
Q2 : La densité de la cible a-t-elle une incidence sur l’uniformité du film ?
A2 : Des cibles denses et uniformes contribuent à améliorer la stabilité de la pulvérisation et la cohérence de la composition du film.
Q3 : Est-il possible de personnaliser des cibles de différentes tailles ou épaisseurs ?
R3 : Des cibles personnalisées de différentes tailles, épaisseurs et formes peuvent être fournies en fonction des exigences de l’équipement et du processus.
Q4 : Quelles précautions faut-il prendre lors du stockage et du transport des cibles ?
R4 : Il est recommandé de stocker les cibles dans un conteneur scellé afin d’éviter l’humidité et la contamination, afin de préserver l’état de la surface et les performances de la cible.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans la fabrication et la gestion de la qualité des cibles de pulvérisation en alliage à base de cuivre, en mettant l’accent sur l’uniformité des matériaux, la précision du traitement et la stabilité de la livraison. Nous fournissons des solutions fiables et hautement évaluables en matière de matériaux de dépôt de couches minces pour les clients du secteur de la recherche et de l’industrie.
Formule chimique : CuSn
Aspect : Matériau cible dense, gris argenté à gris métallique
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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