Alliage de cobalt, de tantale et de zirconium

Présentation des cibles de pulvérisation en alliage de cobalt-tantale-zirconium

Les cibles de pulvérisation
en alliage de cobalt-tantale-zirconium
sont des cibles en alliage de cobalt-tantale-zirconium haute performance qui présentent une excellente résistance à la corrosion et une excellente stabilité thermique. Elles sont largement utilisées dans les films minces magnétiques, les couches conductrices à haute température et le dépôt de dispositifs microélectroniques.

Nous proposons des cibles
en alliage CoTaZr
de différentes tailles, puretés et formes cristallines, et nous assurons des tests d’échantillons et des consultations techniques. Veuillez nous contacter
pour obtenir des informations détaillées et des solutions de processus.

Points forts du produit

Excellente résistance à la corrosion

Bonne stabilité thermique

Conductivité fiable

Convient à divers processus de pulvérisation

Taille et forme cristalline personnalisables

Liaison et fond de panier personnalisables

Contrôle strict de la cohérence des lots

Cycle de livraison flexible

Prise en charge des expériences de recherche scientifique et de la vérification des processus

Applications des cibles de pulvérisation en alliage de cobalt-tantale-zirconium

Préparation de films minces magnétiques :
les cibles de pulvérisation en alliage de cobalt-tantale-zirconium conviennent au dépôt de films minces magnétiques, garantissant des films denses et uniformes et améliorant la stabilité des propriétés magnétiques.

Dépôt de dispositifs microélectroniques :
utilisé pour le dépôt de couches de métallisation dans les dispositifs microélectroniques, améliorant la conductivité et la stabilité thermique des dispositifs.

Couche conductrice à haute température :
les films minces conducteurs peuvent être déposés à des températures élevées, présentant une excellente stabilité thermique et une excellente résistance à la corrosion.

Recherche scientifique et développement de matériaux :
largement utilisés dans les instituts de recherche et les départements de R&D des entreprises pour les tests de performance des matériaux et l’optimisation des paramètres de processus.

FAQ

Q1 : Quels sont les processus de pulvérisation adaptés aux cibles de pulvérisation en alliage de cobalt-tantale-zirconium ?
R1 : Convient à divers procédés de dépôt de films minces tels que le pulvérisation magnétron, la pulvérisation RF et la pulvérisation DC.

Q2 : La forme cristalline de la cible peut-elle être personnalisée ?
R2 : Oui, différentes formes cristallines de cibles peuvent être fournies en fonction des besoins des clients afin de répondre aux exigences de performance.

Q3 : Les cibles sont-elles susceptibles de se fissurer pendant leur utilisation ?
R3 : Préparées à l’aide d’un procédé métallurgique à haute densité, les grains sont uniformes, ce qui réduit efficacement le risque de fissuration et de porosité.

Q4 : Quelles précautions faut-il prendre lors du stockage de la cible ?
A4 : Il est recommandé de stocker la cible dans un environnement hermétique, sec et ventilé, en évitant l’humidité et la contamination afin de maintenir la stabilité des performances de la cible.

Rapports

Chaque lot est fourni avec :

Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)

Rapport d’inspection des dimensions

Rapports d’essais par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous sommes spécialisés dans la recherche et la fourniture stable de cibles de pulvérisation
en alliage cobalt-tantale-zirconium de haute pureté
. Grâce à un système de gestion de la qualité complet et à des capacités de personnalisation flexibles, nous pouvons fournir à nos clients des solutions fiables et traçables adaptées à la recherche scientifique et aux applications industrielles, contribuant ainsi à l’avancement efficace des projets.