| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 2600ST001 | Fe | 99.95% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 2600ST002 | Fe | 99.95% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 2600ST003 | Fe | 99.95% | Ø 50.8 mm x 25.4 mm | Inquire |
| 2600ST004 | Fe | 99.95% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 2600ST005 | Fe | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 2600ST006 | Fe | 99.95% | Ø 101.6 mm x 1.58 mm | Inquire |
| 2600ST007 | Fe | 99.95% | Ø 203.2 mm x 2 mm | Inquire |
| 2600ST008 | Fe | 99.99% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 2600ST009 | Fe | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 2600ST010 | Fe | 99.99% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 2600ST011 | Fe | 99.99% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 2600ST012 | Fe | 99.99% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
Les cibles de pulvérisation
en fer
constituent un matériau de base essentiel pour la fabrication de films minces fonctionnels à l’aide de techniques de dépôt physique en phase vapeur (PVD), telles que la pulvérisation magnétron. Leurs principaux avantages résident dans leur pureté métallique exceptionnellement élevée et leurs propriétés ferromagnétiques remarquables. Ces cibles sont principalement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, les écrans d’affichage, le stockage de données et la recherche scientifique pour déposer des films minces à l’échelle nanométrique présentant une conductivité, un magnétisme et une stabilité supérieurs.
Nous proposons divers matériaux cibles en fer
métallique de haute pureté, de forme circulaire, rectangulaire ou autre. Des services de collage professionnels avec des plaques de support en cuivre sans oxygène sont disponibles pour optimiser la dissipation thermique et améliorer la stabilité de la pulvérisation. De plus, nous proposons une personnalisation poussée des dimensions, de la pureté, des formes et même des compositions d’alliages afin de répondre aux exigences spécifiques de votre équipement et de vos processus. N’hésitez pas à nous contacter
pour toute question.
Ultra-haute pureté
Haute densité
Propriétés magnétiques supérieures
Processus de collage professionnel
Semi-conducteurs
et microélectronique : utilisées pour le dépôt d’électrodes, d’interconnexions et de couches barrières dans la fabrication de circuits intégrés, répondant aux exigences de miniaturisation et de haute performance des appareils.
Technologie d’affichage à écran plat : utilisées dans la production d’écrans LCD, OLED et autres pour la fabrication de circuits conducteurs de précision et de couches de film critiques dans les transistors à couche mince (TFT).
Stockage de données et dispositifs magnétiques : servent de matériau cible principal pour la fabrication de supports d’enregistrement magnétiques sur des plateaux de disques durs, diverses têtes magnétiques et des capteurs magnétiques haute sensibilité.
Recherche de pointe et revêtement optique : fournit un support de matériaux de haute pureté pour le développement de nouveaux matériaux (par exemple, les dispositifs spintroniques) dans les universités et les instituts de recherche, ainsi que des revêtements fonctionnels pour les composants optiques.
Q1 : Comment la pureté des cibles de fer est-elle mesurée ? Quels sont les principaux éléments contrôlés pour les impuretés ?
A1 : La pureté est généralement exprimée en pourcentage. Nous testons et contrôlons rigoureusement les principales impuretés, notamment les métaux alcalins, les métaux lourds et les éléments gazeux (oxygène, azote), à l’aide de méthodes de précision telles que la spectrométrie de masse à décharge luminescente (GD-MS) afin de garantir la conformité aux normes d’application haut de gamme.
Q2 : Le fer est-il un matériau fortement magnétique ?
R2 : Oui. Le fort magnétisme des cibles en fer peut protéger les champs magnétiques, ce qui peut affecter la stabilité du plasma de pulvérisation.
Q3 : Pourquoi certaines cibles en fer doivent-elles être collées à une plaque de support (par exemple, en cuivre) ?
A3 : Il est essentiel de coller une plaque de support à haute conductivité thermique. Elle dissipe rapidement la chaleur générée pendant la pulvérisation, empêchant ainsi la fissuration ou la déformation de la cible due à une surchauffe localisée. Cela améliore considérablement l’utilisation de la cible et la sécurité opérationnelle, en particulier pour les processus de pulvérisation à haute puissance.
Q4 : Les cibles à base de fer peuvent-elles être personnalisées avec des dimensions non standard ou des compositions d’alliages spéciales ?
A4 : Absolument. Nous disposons de capacités de traitement complètes, de la fonte et du forgeage à l’usinage de précision, ce qui nous permet de personnaliser des cibles de toutes tailles et formes à partir des plans que vous nous fournissez.
Chaque lot est accompagné des documents suivants :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans les matériaux métalliques de haute pureté et fournissons non seulement des produits, mais aussi des solutions complètes. Grâce à notre connaissance approfondie des défis liés à la pulvérisation des cibles ferromagnétiques et à notre contrôle qualité rigoureux de bout en bout, de la purification des matières premières à l’emballage final, nous garantissons que chaque cible offre des performances exceptionnelles et constantes.
Formule moléculaire : Fe
Poids moléculaire : 55.845 g/mol
Aspect : Blanc argenté lustré ou gris métallique
Densité : Environ 7,86 – 7,87 g/cm³ : Environ 7,86 – 7,87 g/cm³
Point de fusion : Environ 1538 °C
Point d’ébullition : Environ 2750 °C
Structure cristalline : Cubique centré (α-Fe) à température ambiante
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
Si vous avez besoin d'un service, veuillez nous contacter