Les substrats
de tantalate de potassium
sont des matériaux monocristallins présentant une structure cristalline de type pérovskite, caractérisés par un réseau cristallin complet et une qualité de surface élevée. Ces substrats sont largement utilisés dans la croissance épitaxiale de couches minces, la recherche sur les propriétés d’interface et le développement de nouveaux dispositifs à base d’oxyde.
Nous proposons des substrats KTaO3 dans différentes orientations et tailles, et prenons en charge le traitement sur mesure. Veuillez nous contacter
pour obtenir les paramètres techniques détaillés.
Structure monocristalline complète
Constante de réseau stable
Haute qualité de polissage de surface
Convient à la croissance épitaxiale
Spécifications d’orientation flexibles
Bonne cohérence des lots
Croissance épitaxiale de films minces d’oxyde : couramment utilisé pour la croissance de divers films minces d’oxyde de pérovskite, contribuant à l’obtention de couches épitaxiales de haute qualité et de structures d’interface claires.
Recherche sur les interfaces et les propriétés à faible dimension : ce substrat est adapté à l’étude de phénomènes de pointe tels que le transport d’électrons et les gaz d’électrons bidimensionnels aux interfaces des oxydes.
Développement de dispositifs à couche mince fonctionnelle : dans la recherche de nouveaux dispositifs électroniques et fonctionnels, le substrat peut servir de plate-forme de base pour vérifier les structures et les performances des dispositifs.
Recherche sur la structure des matériaux et l’adaptation des contraintes : les substrats KTaO3 présentent des avantages en matière d’adaptation des réseaux cristallins et sont souvent utilisés dans les études de compatibilité structurelle et de contraintes de différents systèmes de matériaux.
Q1 : Quelles sont les orientations cristallines courantes des substrats de tantalate de potassium ?
A1 : Les orientations cristallines couramment utilisées sont (100), (110) et (111), qui peuvent être sélectionnées en fonction des exigences expérimentales.
Q2 : Quelles sont les méthodes de traitement de surface des substrats ?
R2 : Un polissage double face ou simple face est généralement proposé, et la rugosité de surface peut répondre aux exigences de la croissance épitaxiale.
Q3 : À quels procédés de dépôt les substrats KTaO3 sont-ils adaptés ?
R3 : Ils conviennent à diverses méthodes de préparation de couches minces telles que le dépôt par laser pulsé, la pulvérisation magnétron et l’épitaxie par faisceau moléculaire.
Q4 : Proposez-vous des tailles personnalisées ou des spécifications spéciales ?
R4 : Oui, nous pouvons fournir des substrats personnalisés de différentes tailles, épaisseurs et orientations en fonction des besoins des clients.
sur l’orientation des monocristaux et la qualité des cristaux
Données relatives au polissage et à la rugosité de la surface
Registres d’inspection des dimensions et de l’épaisseur
Documents relatifs au numéro de lot et à la traçabilité de la qualité
Nous sommes spécialisés dans la fourniture et le contrôle qualité de substrats monocristallins en oxyde fonctionnel. Nous comprenons les exigences élevées en matière de cohérence et de fiabilité des substrats dans la croissance épitaxiale et la recherche sur les dispositifs, et pouvons fournir à nos clients un soutien à long terme en matière de communication technique, d’adéquation des spécifications et de stabilité des livraisons.
Formule moléculaire : KTaO₃
Poids moléculaire : 268.05
Aspect : Plaquette monocristalline incolore, transparente ou jaune pâle (substrat poli).
Densité : 7,1 g/cm³
Point de fusion : Environ 1320 °C
Structure cristalline : Cubique (structure pérovskite, monocristal)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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