Tantalate de potassium (oxyde de potassium et de tantale)

Cible de pulvérisation en oxyde de tantale et de potassium Présentation

Les cibles de pulvérisation
en oxyde de tantale et de potassium
sont des cibles céramiques fonctionnelles à base d’oxydes à structure pérovskite, caractérisées par une composition uniforme et une stabilité structurelle. Ces cibles sont principalement utilisées pour la préparation de films minces d’oxyde, appliqués dans les domaines des matériaux électroniques et de la recherche sur les films minces fonctionnels.

Nous proposons des cibles de pulvérisation KTaO3 de différentes tailles, épaisseurs et méthodes de montage, et prenons en charge le traitement personnalisé. Veuillez nous contacter
pour trouver la solution qui vous convient.

Points forts du produit

Cible céramique haute densité
Processus de pulvérisation stable et fiable
Bonne répétabilité de la composition du film mince
Prend en charge les processus de pulvérisation RF
Liaison par fond de panier disponible
Convient à la recherche et à la production à l’échelle pilote

Applications des cibles de pulvérisation en oxyde de tantale et de potassium

Préparation de films minces fonctionnels à base d’oxyde : couramment utilisé pour préparer des films minces d’oxyde à structure pérovskite, ce qui permet d’obtenir des couches fonctionnelles avec une composition stable et une épaisseur contrôlable.
Recherche sur les films minces électroniques et diélectriques : dans la recherche sur les matériaux électroniques, cette cible peut être utilisée pour le dépôt de films minces diélectriques ou fonctionnels afin d’évaluer les performances des dispositifs.
Développement de films minces multicouches et de structures hétérogènes : convient à la préparation de films minces multicouches ou à hétérojonction, fournissant une référence précieuse pour le contrôle de la qualité des interfaces.
Optimisation des paramètres de processus et des conditions de dépôt : cette cible est couramment utilisée dans la phase de développement du processus de pulvérisation pour étudier les effets de la puissance, de l’atmosphère et de la température sur les performances des films minces.

FAQ

Q1 : La cible de pulvérisation en oxyde de tantale et de potassium est-elle adaptée à la pulvérisation DC ou RF ?
A1 : En tant que cible céramique, elle est généralement plus adaptée aux processus de pulvérisation RF.

Q2 : La cible est-elle susceptible de se fissurer pendant la pulvérisation ?
A2 : Dans des conditions de processus appropriées, la structure de la cible est stable et la fissuration ne pose pas de problème.

Q3 : Pouvez-vous fournir des cibles collées à un fond de panier ?
R3 : Oui, nous proposons des services de collage avec du cuivre ou d’autres fonds de panier couramment utilisés.

Q4 : La cible nécessite-t-elle un traitement spécial avant utilisation ?
R4 : En général, aucun traitement spécial n’est nécessaire ; les procédures d’utilisation standard des cibles de pulvérisation sont suffisantes.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous avons une grande expérience dans le domaine des cibles de pulvérisation en céramique oxydée, ce qui nous permet d’offrir un soutien fiable en matière de cohérence des matériaux, de précision de traitement et d’adéquation des applications, aidant ainsi nos clients à faire progresser de manière constante la R&D et la validation des processus dans le domaine des couches minces.