Siliciure de magnésium

Cible de pulvérisation en siliciure de magnésium Présentation

Les cibles de pulvérisation
en siliciure de magnésium
sont des cibles composées de magnésium et de silicium, adaptées aux processus de dépôt de couches minces nécessitant des rapports de composition précis et une consistance élevée du film. Elles sont principalement utilisées dans la préparation de couches minces fonctionnelles, l’ingénierie des surfaces des matériaux et la recherche sur les dispositifs associés.

Nous pouvons traiter des cibles de pulvérisation en siliciure de magnésium de différentes tailles, épaisseurs et structures en fonction des exigences des équipements, en proposant une personnalisation
et un approvisionnement stable. Veuillez nous contacter
directement pour toute demande de renseignements.

Points forts du produit

Cible de pulvérisation composite
Rapport de composition stable
Structure dense, pulvérisation lisse
Bonne répétabilité du film
Teneur en impuretés contrôlable
Prend en charge la personnalisation de diverses spécifications

Applications des cibles de pulvérisation en siliciure de magnésium

Dépôt de films minces fonctionnels : peut être utilisé pour préparer des films minces à base de silicium-magnésium avec une composition uniforme, répondant aux exigences de stabilité du film.
Développement de processus de dépôt sous vide : dans les processus sous vide tels que le pulvérisation magnétron, cette cible est adaptée au réglage des paramètres et à la vérification des processus.
Ingénierie des surfaces et recherche sur les couches structurelles : la pulvérisation de cibles en siliciure de magnésium permet de contrôler la structure et les propriétés de surface des matériaux.
Recherche et applications en laboratoire : largement utilisé dans la recherche sur les matériaux en couches minces et l’exploration de nouveaux systèmes dans les universités et les instituts de recherche.

FAQ

Q1 : À quel procédé de pulvérisation la cible de pulvérisation au siliciure de magnésium est-elle adaptée ?
A1 : Couramment utilisée dans les méthodes de dépôt sous vide telles que la pulvérisation magnétron. L’application spécifique dépend de la configuration de l’équipement.

Q2 : La cible au siliciure de magnésium est-elle susceptible de se décomposer pendant la pulvérisation ?
R2 : Dans des conditions de puissance et de vide appropriées, elle peut maintenir un état de pulvérisation stable.

Q3 : Les cibles de pulvérisation en siliciure de magnésium peuvent-elles être personnalisées à des tailles non standard ?
R3 : Oui, nous prenons en charge le traitement personnalisé en fonction de la taille de la cible et des exigences d’utilisation.

Q4 : Cette cible nécessite-t-elle une plaque de support ?
R4 : La nécessité d’une plaque de support dépend de la taille et des exigences de l’équipement. Nous pouvons vous fournir des suggestions correspondantes.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous avons de l’expérience dans la formulation, le frittage et le traitement des cibles de pulvérisation composites, ce qui garantit la cohérence de la composition et la stabilité opérationnelle, et aide les clients à réduire le temps de mise en service de la pulvérisation.