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Alliage de silicium et d’aluminium

Chemical Name:
Alliage de silicium et d'aluminium
Formula:
SiAl
Product No.:
141300
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Cible rotative
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
141300RT001 SiAl (90/10wt%) 99.9% ID125mm x OD133mm x 850mm, 6 mm Th Inquire
141300RT002 SiAl (70/30wt%) 99.9% ID125mm x OD133 x 1600mm,6 mm Th Inquire
141300RT003 SiAl (50/50wt%) 99.9% ID125mm x OD133 x 1600mm,6 mm Th Inquire
Product ID
141300RT001
Formula
SiAl (90/10wt%)
Purity
99.9%
Dimension
ID125mm x OD133mm x 850mm, 6 mm Th
Product ID
141300RT002
Formula
SiAl (70/30wt%)
Purity
99.9%
Dimension
ID125mm x OD133 x 1600mm,6 mm Th
Product ID
141300RT003
Formula
SiAl (50/50wt%)
Purity
99.9%
Dimension
ID125mm x OD133 x 1600mm,6 mm Th

Cible rotative en alliage silicium-aluminium Présentation

La cible rotative
en alliage silicium-aluminium
est une cible rotative en alliage destinée aux processus de pulvérisation cathodique en continu, qui combine les propriétés des alliages silicium-aluminium et les avantages d’une structure de cible rotative. Elle est principalement utilisée dans les panneaux d’affichage, les couches métalliques des semi-conducteurs
, les circuits à couche mince et le dépôt de revêtements fonctionnels sur de grandes surfaces.

Nous pouvons fournir des cibles rotatives en alliage silicium-aluminium de différentes tailles et types d’interface en fonction de la structure cathodique de l’équipement. Nous prenons en charge l’intégration des processus et la communication technique. Veuillez nous contacter
directement pour obtenir des solutions.

Points forts du produit

Pulvérisation rotative, utilisation élevée de la cible
Bonne stabilité de pulvérisation de l’alliage
Excellente uniformité du film
Convient à un fonctionnement continu à long terme
Facilite la dissipation thermique et le refroidissement
Structure et taille personnalisées prises en charge

Applications de la cible rotative en alliage silicium-aluminium

Films métalliques pour écrans :
convient au dépôt de couches métalliques conductrices ou fonctionnelles dans les écrans, répondant aux exigences de dépôt uniforme de films sur de grandes surfaces.
Dépôt de couches métalliques pour semi-conducteurs :
dans la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs, la structure à cible rotative contribue à améliorer la stabilité de la pulvérisation et l’uniformité du film.
Circuits à couche mince et revêtements fonctionnels :
convient à la préparation de circuits à couche mince et de revêtements fonctionnels associés, permettant un fonctionnement stable dans des conditions de processus continu.
Recherche et optimisation des processus :
largement utilisé dans la recherche sur les paramètres de processus et le développement de nouveaux alliages pour couches minces dans les systèmes de pulvérisation par centrifugation.

FAQ

Q1 : Quels sont les avantages d’une cible rotative en alliage de silicium et d’aluminium par rapport à une cible plane en alliage ?
R1 : Une cible rotative, grâce à sa participation continue au pulvérisation, peut améliorer l’utilisation de la cible et renforcer l’uniformité des films minces de grande surface.

Q2 : Quelles sont les exigences relatives au système de refroidissement lors de l’utilisation d’une cible rotative en alliage de silicium et d’aluminium ?
R2 : Les cibles rotatives sont généralement utilisées en conjonction avec des structures de refroidissement internes afin de contribuer à maintenir la stabilité du processus de pulvérisation.

Q3 : Quelles méthodes de pulvérisation conviennent aux cibles rotatives en alliage de silicium et d’aluminium ?
A3 : Elles peuvent être utilisées dans les processus courants de pulvérisation de cibles métalliques, tels que la pulvérisation en courant continu, en fonction de la configuration de l’équipement.

Q4 : Comment maintenir une composition de film stable pendant la pulvérisation ?
A4 : Un contrôle approprié de la puissance, de l’atmosphère et des paramètres de rotation permet d’obtenir des performances de film stables et constantes.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous sommes spécialisés dans la fourniture de cibles de pulvérisation par centrifugation en alliage adaptées à chaque application, en mettant l’accent sur la conception structurelle des cibles et la compatibilité des équipements. Nous pouvons fournir à nos clients des solutions produits stables et fiables ainsi qu’une assistance technique efficace.

Formule moléculaire : SiAl
Aspect : Tube cible rotatif dense, gris argenté
Densité : 2,3-2,7 g/cm³ (selon le rapport d’alliage et le processus de frittage)

Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.

Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.

Documents

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