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Alliage de silicium, d’aluminium et de zirconium

Chemical Name:
Alliage de silicium, d'aluminium et de zirconium
Formula:
SiAlZr
Product No.:
14134000
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Cible rotative
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
14134000RT001 SiAlZr 99.5% ID125mm x OD133mm x 850mm, 6 mm Th Inquire
Product ID
14134000RT001
Formula
SiAlZr
Purity
99.5%
Dimension
ID125mm x OD133mm x 850mm, 6 mm Th

Présentation de la cible rotative en alliage de silicium, aluminium et zirconium

La cible rotative en alliage
de silicium, aluminium et zirconium
est une cible rotative à plusieurs éléments en alliage destinée aux processus de pulvérisation cathodique en continu. Combinant les propriétés du silicium, de l’aluminium et du zirconium, elle permet un dépôt de couches minces très stable. Elle est largement utilisée dans les couches métalliques des écrans d’affichage, les couches fonctionnelles des semi-conducteurs, les circuits à couches minces et le dépôt de revêtements fonctionnels sur de grandes surfaces.

Nous pouvons fournir des cibles rotatives en alliage de silicium, d’aluminium et de zirconium de différentes tailles, interfaces et structures en fonction des exigences des équipements des clients, en prenant en charge l’adaptation des processus et l’intégration technologique. Veuillez nous contacter
directement pour obtenir des solutions.

Points forts du produit

La structure rotative améliore l’utilisation de la cible.
Bonne stabilité de pulvérisation de l’alliage multi-éléments.
Excellente uniformité du film et épaisseur constante.
Dépôt continu stable sur de longues périodes.
Excellente gestion thermique et effet de refroidissement
.
Taille, interface et structure
personnalisables
.

Applications de la cible rotative en alliage de silicium

,

d’aluminium

et

de zirconium

Dépôt de film mince métallique pour écrans :
convient au dépôt de couches métalliques ou fonctionnelles de grande surface dans les dispositifs d’affichage, garantissant l’uniformité du film et des propriétés électriques stables.
Dépôt de couches fonctionnelles semi-conductrices :
dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, les cibles rotatives multi-alliages assurent un dépôt stable de films minces métalliques, garantissant des performances constantes des dispositifs.
Circuits à films minces et revêtements fonctionnels :
convient aux processus de dépôt continu de circuits à films minces, de couches fonctionnelles électriques et de revêtements protecteurs, garantissant la densité et la stabilité du film.
Recherche et développement de processus :
largement utilisé dans la recherche expérimentale et l’optimisation des processus des systèmes de pulvérisation rotatifs, fournissant une base matérielle pour le développement de nouveaux films minces multi-alliages.

FAQ

Q1 : Quelle est la différence entre une cible rotative en alliage de silicium, d’aluminium et de zirconium et une cible rotative en alliage classique ?
R1 : Les cibles rotatives multi-alliages offrent une stabilité supérieure du film et un meilleur contrôle des performances du film mince, répondant ainsi aux exigences des applications nécessitant une conductivité et des performances mécaniques plus élevées.

Q2 : Comment la gestion de la chaleur est-elle assurée pendant le processus de pulvérisation ?
R2 : La cible rotative, associée à un système de refroidissement, disperse efficacement la chaleur générée pendant la pulvérisation, maintenant ainsi la stabilité de la cible.

Q3 : Quels processus de pulvérisation sont adaptés à ce type de cible rotative en alliage multiple ?
A3 : Convient aux processus de dépôt physique en phase vapeur DC, RF et autres processus courants ; des ajustements spécifiques peuvent être effectués en fonction de l’équipement.

Q4 : Comment obtenir un dépôt de film mince uniforme et cohérent ?
A4 : En contrôlant correctement la puissance, la vitesse de rotation et les conditions atmosphériques, il est possible d’obtenir un dépôt de film mince uniforme, dense et stable.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous sommes spécialisés dans la fourniture de cibles de pulvérisation rotatives multi-alliages adaptées à chaque application, en mettant l’accent sur la conception de la structure des cibles et la compatibilité des équipements, afin de fournir à nos clients des solutions de dépôt de couches minces stables et fiables ainsi qu’une assistance technique efficace.

Formule moléculaire : SiAlZr
Aspect : Tube cible rotatif dense gris argenté
Densité : 2,4-2,8 g/cm³ (selon le rapport d’alliage et le processus de frittage)

Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.

Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.

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