Monoxyde de silicium

Cibles de pulvérisation en monoxyde de silicium Présentation

Les cibles de pulvérisation
en monoxyde de silicium
sont des cibles céramiques utilisées pour le dépôt de films minces fonctionnels. Elles présentent une excellente stabilité thermique et des caractéristiques de dépôt uniformes. Elles sont largement utilisées dans la fabrication de dispositifs électroniques, de revêtements fonctionnels et de films minces optiques
.

Nous pouvons fournir des cibles de pulvérisation en monoxyde de silicium compatibles avec les processus et prendre en charge
l’intégration technique
de la structure des cibles et des paramètres de dépôt. Contactez-nous
dès maintenant !

Points forts du produit

Composition uniforme et stable du film
Grande stabilité thermique
Bonne uniformité de dépôt
Forte compatibilité avec les processus
Convient à divers processus de pulvérisation

Applications des cibles de pulvérisation en monoxyde de silicium

Fabrication de films minces fonctionnels :
les cibles en SiO conviennent à la fabrication de dispositifs électroniques et de films minces fonctionnels optiques, améliorant la cohérence des performances des films.
Dépôt de dispositifs électroniques :
utilisées pour le dépôt de semi-conducteurs et de films minces fonctionnels, elles améliorent la fiabilité et la stabilité thermique des dispositifs.
Films minces et revêtements optiques :
adaptées à la fabrication de films conducteurs transparents, de films antireflets et d’autres couches fonctionnelles optiques.
Recherche et validation des processus :
soutiennent la recherche sur les nouveaux matériaux pour films minces et l’optimisation des paramètres de dépôt.

FAQ

Q1 : À quels films minces les cibles de pulvérisation en monoxyde de silicium sont-elles principalement utilisées ?
R1 : Elles sont principalement utilisées pour les films minces dans les dispositifs électroniques, les films optiques et les revêtements fonctionnels.

Q2 : Comment la cible SiO se comporte-t-elle lors d’un dépôt à haute température ?
R2 : Sa grande stabilité thermique garantit un dépôt uniforme du film, même à haute température.

Q3 : À quels procédés de pulvérisation cette cible est-elle adaptée ?
R3 : Elle convient à la pulvérisation magnétron et à d’autres procédés conventionnels de dépôt de films minces.

Q4 : La structure de la cible a-t-elle une incidence sur l’uniformité du film ?
A4 : Une structure de cible bien conçue peut améliorer l’uniformité de l’épaisseur et de la composition du film.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous disposons d’une expérience technique et d’un approvisionnement éprouvés dans le domaine des cibles de pulvérisation céramiques, ce qui nous permet de fournir des cibles de pulvérisation en monoxyde de silicium stables et traçables, aidant ainsi nos clients à obtenir un dépôt de couche mince hautement cohérent et fiable pendant les phases de R&D et d’application.