La poudre
de dioxyde de silicium
est une poudre inorganique de haute pureté qui présente une excellente stabilité chimique et thermique. Elle est largement utilisée dans les matériaux de revêtement, la préparation de céramiques, les appareils électroniques et le développement de films minces fonctionnels.
Nous pouvons fournir de la poudre de dioxyde de silicium compatible avec vos processus et vous aider dans vos discussions techniques concernant les spécifications de la poudre, les paramètres de processus et les instructions d’application. Contactez-nous
dès maintenant !
Haute inertie chimique
Excellente stabilité thermique
Poudre uniforme avec une bonne fluidité
Convient à divers processus de traitement et de dépôt
Utilisable dans les films minces, les revêtements et les matériaux céramiques
Matériaux de revêtement fonctionnels :
la poudre de SiO₂ est utilisée pour préparer des revêtements protecteurs et des films minces fonctionnels, améliorant les propriétés et l’uniformité de la surface.
Préparation de céramiques :
en tant que matière première pour les matériaux céramiques, elle améliore la stabilité thermique et les performances d’isolation des appareils.
Matériaux pour dispositifs électroniques :
dans les dispositifs électroniques, elle est utilisée pour préparer des films minces fonctionnels et des couches diélectriques, améliorant ainsi la fiabilité des dispositifs.
Recherche et validation des processus :
soutient le développement de nouveaux matériaux et l’optimisation des paramètres des processus de fabrication de films minces et de revêtements.
Q1 : À quelles applications la poudre de dioxyde de silicium est-elle adaptée ?
A1 : Elle est principalement utilisée dans les matériaux de revêtement, la céramique, les dispositifs électroniques et la préparation de films minces fonctionnels.
Q2 : La poudre est-elle stable à haute température ?
R2 : La poudre de SiO₂ conserve sa stabilité chimique et physique même à haute température.
Q3 : La morphologie de la poudre a-t-elle une incidence sur les applications ?
R3 : Une morphologie uniforme et stable de la poudre contribue à améliorer la cohérence du dépôt et du traitement.
Q4 : La poudre de SiO₂ peut-elle être utilisée directement pour le dépôt de films minces ?
R4 : Oui, elle convient à la préparation de films minces et aux matières premières de revêtement fonctionnel.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans la fourniture de poudres inorganiques haute performance et proposons une poudre de dioxyde de silicium stable et traçable afin d’aider nos clients à atteindre un niveau élevé de cohérence et de fiabilité dans leurs applications de R&D et de traitement.
Formule moléculaire : SiO2
Poids moléculaire : 60.08 g/mol
Aspect : Poudre blanche
Densité : 2.2-2.65 g/cm³
Point de fusion : 1710 °C
Point d’ébullition : 2230 °C
Structure cristalline : Tétragonal/Hexagonal (cristal de quartz) ; Amorphe (poudre)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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