Les plaquettes
de dioxyde de silicium
sont des feuilles d’oxyde de silicium de haute pureté qui présentent une excellente stabilité thermique, une inertie chimique et une planéité de surface. Elles sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, les dispositifs microélectroniques et le dépôt de couches minces optiques
.
Nous proposons des plaquettes de SiO2 dans différentes spécifications et assurons l’intégration technique pour la taille, l’épaisseur et l’adaptation des processus. Contactez-nous
dès maintenant !
Haute stabilité thermique et inertie chimique
Surface lisse avec une grande planéité
Taille et épaisseur personnalisables
Convient aux processus de semi-conducteurs et de films minces optiques
Forte compatibilité avec les processus
Fabrication de dispositifs à semi-conducteurs :
les plaquettes de SiO₂ peuvent être utilisées comme substrats ou matériaux isolants pour les dispositifs électroniques, améliorant ainsi les performances et la fiabilité des dispositifs.
Dépôt de couches minces microélectroniques :
utilisées pour la préparation de couches minces microélectroniques, elles garantissent l’adhérence et l’uniformité de l’épaisseur des couches.
Applications de couches minces optiques :
adaptées à la préparation de couches fonctionnelles optiques, de couches antireflets et de couches conductrices transparentes.
Recherche et validation des processus :
soutient la recherche sur les nouveaux matériaux et les processus de couches minces, en validant les paramètres de dépôt et les effets des processus.
Q1 : Dans quels processus les plaquettes de SiO₂ peuvent-elles être utilisées ?
A1 : Elles sont principalement utilisées dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, le dépôt de couches minces microélectroniques et la fabrication de couches minces optiques.
Q2 : Les plaquettes d’oxyde de silicium sont-elles stables dans les processus à haute température ?
R2 : Les plaquettes de SiO₂ ont une grande stabilité thermique et peuvent conserver leur structure et leurs performances dans les processus à haute température.
Q3 : La planéité de la surface de la plaquette a-t-elle une incidence sur l’application ?
R3 : Une grande planéité garantit un dépôt uniforme du film mince et des performances constantes du dispositif.
Q4 : Les plaquettes de SiO₂ peuvent-elles être utilisées directement pour le dépôt de films minces ?
R4 : Oui, elles conviennent aux substrats utilisés dans le dépôt de films minces fonctionnels optiques et semi-conducteurs.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous avons une grande expérience dans le domaine de la fourniture de plaquettes d’oxyde de silicium et pouvons fournir des plaquettes de SiO₂ hautement stables et traçables afin d’aider nos clients à obtenir une cohérence et une fiabilité dans le dépôt de couches minces et la fabrication de dispositifs pendant les phases de R&D et d’application.
Formule moléculaire : SiO2
Poids moléculaire : 60.08 g/mol
Aspect : Plaquette blanche
Densité : 2.65 g/cm³
Point de fusion : 1710 °C
Point d’ébullition : 2230 °C
Structure cristalline : Tétragonal/Hexagonal (quartz)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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