La cible de pulvérisation
en titane-chrome
est composée de titane et de chrome, combinant l’excellente adhérence des matériaux à base de titane et la résistance à la corrosion des matériaux à base de chrome. Elle convient à divers procédés de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Cette cible est couramment utilisée pour préparer des films minces métalliques ou fonctionnels présentant une excellente adhérence, une structure stable et une résistance à l’environnement.
Nous pouvons fournir des cibles de pulvérisation en alliage TiCr de composition uniforme et de structure dense, adaptées aux systèmes de pulvérisation magnétron DC ou RF. Nous répondons aux exigences personnalisées en matière de tailles, de formes et de
méthodes de liaison
afin de répondre aux applications de recherche et de production industrielle.
Excellente adhérence du film et stabilité interfaciale
Équilibre entre résistance à la corrosion et stabilité mécanique
Convient à divers substrats et conditions de processus de pulvérisation
Système d’alliage stable, propice à l’uniformité du film
Convient au pulvérisation continue et aux applications à grande échelle
Films minces fonctionnels et de transition :
les films minces en alliage TiCr sont couramment utilisés comme couches de transition dans les films minces fonctionnels ou les structures multicouches afin d’améliorer l’adhérence et la stabilité globales du système de film mince.
Résistance à la corrosion et revêtements protecteurs :
utilisés dans les appareils électroniques et les applications d’ingénierie pour améliorer la résistance à la corrosion des matériaux dans des environnements complexes.
Microélectronique et fabrication de dispositifs :
convient au dépôt de films minces métalliques dans la fabrication de microélectronique, de capteurs et de dispositifs connexes.
Recherche et développement de procédés :
largement utilisé dans les universités et les instituts de recherche pour le contrôle de la composition des films minces en alliage et l’optimisation du processus de pulvérisation.
Q1 : Pour quels types de structures de films minces la cible de pulvérisation en titane-chrome est-elle généralement utilisée ?
R1 : Elle est principalement utilisée pour les films minces métalliques, les films minces fonctionnels et les couches de transition ou d’adhérence dans les structures multicouches.
Q2 : Quels sont les avantages des cibles TiCr en termes d’adhérence des films minces ?
R2 : Le titane contribue à améliorer l’adhérence entre le film mince et le substrat, tandis que le chrome renforce la stabilité structurelle du film mince.
Q3 : Quels substrats conviennent aux cibles de pulvérisation en alliage TiCr ?
A3 : Cette cible peut être utilisée pour le dépôt de films minces sur du silicium, du verre, des métaux et divers substrats techniques.
Q4 : La cible de pulvérisation en alliage TiCr convient-elle aux processus de pulvérisation à long terme ou continus ?
A4 : Sous un contrôle raisonnable des paramètres du processus, le matériau cible peut supporter un processus de pulvérisation continu et stable.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans les cibles de pulvérisation en alliage et les matériaux avancés pour couches minces, en mettant l’accent sur la densité des cibles, la cohérence de la composition et la compatibilité des processus, afin de fournir des solutions matérielles stables et fiables pour le dépôt de couches minces en alliage TiCr.
Formule moléculaire : TiCr
Aspect : Matériau cible gris argenté
Densité : Environ 4,5 g/cm³ : Environ 4,5 g/cm³
Point de fusion : Environ 1725 °C
Structure cristalline : Cubique centré (BCC)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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