Les cibles de pulvérisation
en tellurure de cuivre
sont des cibles en matériau fonctionnel de haute pureté adaptées au dépôt de couches minces et à la fabrication de dispositifs optoélectroniques et semi-conducteurs, garantissant l’uniformité du film et la stabilité des performances.
Nous pouvons fournir des cibles de pulvérisation en tellurure de cuivre dans différentes spécifications, de haute pureté et de formes personnalisées en fonction des équipements et des exigences de processus de nos clients. Veuillez nous contacter
pour obtenir une assistance technique
et des échantillons.
Haute pureté
Grande uniformité de composition
Performances de dépôt de film stables
Faible teneur en impuretés
Compatible avec divers équipements de pulvérisation
Conductivité et propriétés optiques fiables
Prise en charge de formes circulaires, carrées et irrégulières personnalisées et de collage
Préparation de couches minces
optoélectroniques
: convient au dépôt de couches minces pour cellules solaires et photoconductrices, offrant des couches uniformes et des performances optoélectroniques stables. Fabrication de dispositifs
à semi-conducteurs
: en tant que cible semi-conductrice de type p, utilisée dans la recherche et le développement de nouveaux dispositifs électroniques et de systèmes de matériaux fonctionnels, garantissant des performances stables des dispositifs.
Revêtements fonctionnels et films industriels : peut être utilisé pour le dépôt de revêtements conducteurs, résistants à la corrosion et à fonctions spéciales, améliorant la durée de vie et les performances des matériaux industriels.
Q1 : Quelle méthode de pulvérisation convient aux cibles en tellurure de cuivre ?
A1 : Le tellurure de cuivre est un matériau semi-conducteur, et la pulvérisation RF est généralement recommandée pour garantir un film uniforme et un dépôt stable.
Q2 : La cible nécessite-t-elle un prétraitement ?
A2 : Les cibles sont polies et désoxydées en usine et peuvent être utilisées directement. Un prétraitement supplémentaire peut être effectué si nécessaire en fonction du processus.
Q3 : Les cibles sont-elles fragiles pendant la pulvérisation ?
A3 : Par rapport aux cibles métalliques, les cibles en tellurure de cuivre sont plus fragiles. Évitez les collisions lors de la manipulation et de l’installation.
Q4 : Les tailles et les formes des cibles peuvent-elles être personnalisées ?
A4 : Oui, nous proposons des cibles rondes, carrées et de forme personnalisée pour répondre aux différentes exigences en matière d’équipement et de processus.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous nous concentrons sur la production et la fourniture de cibles de pulvérisation de matériaux fonctionnels de haute pureté. De la sélection des matières premières au contrôle des lots, nous contrôlons rigoureusement le processus afin de garantir que les cibles en tellurure de cuivre offrent des performances stables et fiables dans la recherche scientifique, l’industrie et la préparation de films minces pour dispositifs optoélectroniques, et fournissons à nos clients des matériaux de haute qualité traçables.
Formule chimique : Cu₂Te
Poids moléculaire : 223.30 g/mol
Aspect : Matériau cible dense noir à gris foncé
Densité : 7,35 g/cm³
Point de fusion : 1 065 °C
Structure cristalline : Hexagonale
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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