Alliage de cuivre et de gallium

Présentation des cibles de pulvérisation en cuivre-gallium

Les cibles de pulvérisation
en cuivre-gallium
sont des cibles en alliage de cuivre-gallium couramment utilisées dans les applications de dépôt de films minces fonctionnels et de semi-conducteurs nécessitant un contrôle précis de la composition.

Nous proposons des cibles de pulvérisation en CuGa dans différents rapports de composition et différentes tailles, et nous prenons en charge le traitement personnalisé et la communication technique. Veuillez nous contacter
pour obtenir des solutions personnalisées.

Points forts du produit

Rapport d’alliage cuivre-gallium contrôlable
Bonne densité de la cible
Microstructure uniforme de l’alliage
Processus de pulvérisation stable
Grande cohérence de la composition du film
Convient aux fenêtres de processus fines
Répétabilité fiable des lots

Applications des cibles de pulvérisation CuGa

Dépôt de films minces fonctionnels
pour semi-conducteurs
: les cibles CuGa peuvent être utilisées pour préparer des systèmes de films minces métalliques ou alliés avec des exigences élevées en matière de rapports de composition. Recherche
en optoélectronique
et dispositifs connexes : dans le développement de matériaux et de dispositifs optoélectroniques, les films minces de cuivre-gallium sont souvent utilisés pour contrôler les réponses électriques et optiques.
Couche précurseur pour films minces composés à plusieurs composants : les films minces en alliage CuGa peuvent servir de matériau de base pour les réactions ultérieures ou la préparation de films minces composites.
Développement de processus et validation expérimentale : convient à une utilisation en laboratoire et à l’échelle pilote pour vérifier l’impact de différents paramètres de pulvérisation sur les performances des films minces.

FAQ

Q1 : L’utilisation de cibles de pulvérisation CuGa impose-t-elle des exigences élevées en matière de contrôle de la composition ?
A1 : Oui, le rapport cuivre/gallium affecte directement la composition du film, ce qui rend le contrôle de la composition de la cible crucial.

Q2 : Cette cible convient-elle à la pulvérisation DC ou magnétron ?
A2 : Elle convient généralement au pulvérisation magnétron ; la méthode spécifique doit être déterminée en fonction des conditions de l’équipement et des exigences du processus.

Q3 : L’uniformité de la cible a-t-elle une incidence sur la cohérence du film ?
R3 : Oui, une structure interne uniforme permet d’obtenir des films déposés avec une distribution stable de la composition.

Q4 : Quelles précautions faut-il prendre lors du stockage des cibles CuGa ?
R4 : Il est recommandé de les stocker dans des conteneurs scellés et d’éviter les environnements très humides afin de réduire le risque de modifications de la surface.

Rapports

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous avons une grande expérience dans la préparation et le contrôle qualité des cibles de pulvérisation en alliage, et pouvons contrôler de manière stable le rapport de composition et la structure interne des cibles CuGa afin de fournir à nos clients des performances de pulvérisation fiables et des paramètres transparents.