| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 2800ST001 | Ni | 99.99% | Ø 25.4 mm x 0.5 mm | Inquire |
| 2800ST002 | Ni | 99.99% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 2800ST003 | Ni | 99.99% | Ø 50.8 mm x1 mm | Inquire |
| 2800ST004 | Ni | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 2800ST005 | Ni | 99.99% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 2800ST006 | Ni | 99.99% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 2800ST007 | Ni | 99.99% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 2800ST008 | Ni | 99.99% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 2800ST009 | Ni | 99.99% | Ø 150 mm x 2 mm | Inquire |
| 2800ST010 | Ni | 99.99% | Ø 152.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 2800ST011 | Ni | 99.99% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 2800ST012 | Ni | 99.99% | 300 mm x 100 mm x 4 mm | Inquire |
| 2800ST013 | Ni | 99.99% | 508 mm x 127 mm x 2 mm | Inquire |
Les cibles de pulvérisation
en nickel
sont des matériaux métalliques de haute pureté utilisés dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD), principalement pour la fabrication de films minces fonctionnels et l’ingénierie des surfaces.
Nous proposons des cibles de pulvérisation en nickel dans différentes spécifications, densités et degrés de pureté, et nous offrons des tailles personnalisées et des consultations techniques
. Veuillez nous contacter
pour des solutions personnalisées.
Contrôle stable de la pureté
Densité élevée de la cible
Processus de pulvérisation uniforme
Bonne répétabilité du film
Excellente stabilité de décharge
Compatible avec divers équipements
Films minces
pour semi-conducteurs
et microélectronique : dans la fabrication microélectronique, les films minces à base de nickel sont couramment utilisés pour la fabrication de couches conductrices ou fonctionnelles. La stabilité de la cible permet d’obtenir une épaisseur et des performances constantes du film.
Revêtements magnétiques et fonctionnels : les films minces à base de nickel sont largement utilisés dans les revêtements magnétiques et fonctionnels. Les processus de pulvérisation permettent d’obtenir des revêtements à structure uniforme et bonne adhérence.
Ingénierie des surfaces et revêtements protecteurs : dans le domaine des revêtements résistants à l’usure ou à la corrosion, les cibles en nickel peuvent être utilisées pour former des couches protectrices denses, prolongeant ainsi la durée de vie du substrat.
Recherche scientifique et développement de processus : les cibles de pulvérisation en nickel métallique conviennent à la recherche sur les films minces en laboratoire et à l’exploration des paramètres de processus, répondant aux exigences de répétabilité et de stabilité au stade de la R&D.
Q1 : À quels procédés de dépôt les cibles de pulvérisation de nickel métallique sont-elles adaptées ?
A1 : Elles sont principalement utilisées dans les procédés de dépôt physique en phase vapeur (PVD) et sont compatibles avec divers équipements de pulvérisation courants.
Q2 : La densité de la cible a-t-elle une incidence sur les performances ?
A2 : La densité a un impact significatif sur la stabilité de la pulvérisation et l’uniformité du film. Les cibles à haute densité sont plus avantageuses pour une utilisation continue.
Q3 : Les cibles peuvent-elles être personnalisées en fonction de la taille de l’équipement ?
A3 : Oui, nous prenons en charge le traitement personnalisé de différentes tailles, épaisseurs et structures.
Q4 : Quelles précautions faut-il prendre lors du stockage des cibles ?
A4 : Il est recommandé de les stocker dans un conteneur hermétique, en évitant les environnements humides et la contamination de surface afin de maintenir la stabilité du matériau.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous nous concentrons depuis longtemps sur la préparation et la fourniture de cibles de pulvérisation, en mettant l’accent sur la sélection des matières premières, le contrôle des processus et la stabilité de la qualité. Grâce à une documentation technique claire et à des capacités de personnalisation flexibles, nous aidons nos clients à réduire les incertitudes dans le processus de préparation des films minces.
Formule moléculaire : Ni
Poids moléculaire : 58,69 g/mol
Aspect : Cible métallique blanc argenté, surface lisse, ronde ou rectangulaire.
Densité : 8,90 g/cm³
Point de fusion : 1455°C
Point d’ébullition : 2913°C
Structure cristalline : Structure cristalline cubique à faces centrées
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
Si vous avez besoin d'un service, veuillez nous contacter
